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HF/HClのクリーニング

半導体等の洗浄技術である,薬液HF/HClを用いたクリーニングのメカニズムを教えてください。

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  • rabbit_cat
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回答No.1

「RCA洗浄」で検索されるといくつかの資料が出てくると思います。 基本的には、HFは酸化膜(SiO2)の除去、HClは金属不純物の除去、に使います。

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