半導体などのSC-2洗浄に関して

質問

半導体などでSC-2（HCｌ＋H2O2+H2O）洗浄が用いられますが，HCｌはどの様な役割でしょうか？
プールべ線図からpH=0～2の領域では金属汚染物はイオンとして存在し，溶解除去されると本には書いています。
HCｌを用いてpHを下げているのでしょうが，HCｌ自身が金属汚染物にどの様に作用しているのかをお知らせください。

回答No.1

hiraoki · ベストアンサー

半導体プロセスに関しては門外漢の化学系のものですが、ふと思ったので書き込ませていただきます。
過酸化水素H2O2は酸性条件で酸化力を示します。金属汚染物を除くということは、金属を酸化してイオンにするということでしょうから、多分酸化剤はH2O2ですよね。HCｌが何かをしているというよりは、おっしゃるとおりｐHを下げてH2O2を酸化剤としているだけなのではと思いますが、いかがでしょうか。