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半導体製造工程について

半導体の製造工程を簡単にフローチャートで教えてください。

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  • 物理学
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みんなの回答

  • 回答No.4

インテルのホームページです。 結構簡単に記載されているので、わかりやすいと思います。

参考URL:
http://www.intel.co.jp/jp/home/morepc/edutainment/museum/chips/index.htm

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  • 回答No.3

あなたの質問しているのは、ICやLSIに使用されている化合物半導体のことだと思います。富士通カンタムデバイス株式会社のサイトに、初心者向けの解説書が掲載されています。歴史から、製造工程(図入り)、将来像などです。

参考URL:
http://www.fujitsu.co.jp/hypertext/fqd/Dokuhon/index.html

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  • 回答No.2

端折って書くと,(1)フィールド拡散(素子分離)(2)インプラ(CMOSの場合)(3)ゲート形成(絶縁膜とポリシリコン膜)(3)層間膜形成(4)インプラ(ソースとドレイン部へのイオンドープ)(5)配線形成(6)保護膜形成,といったところ。 実際にはにはメモリとしての電位を保持するコンデンサをゲートと同じようにドレイン部に形成したり,(5)と(3)を繰り返して大量の素子を回路にしたり,となります。その各工程で,成膜(CVD,スパッタ,電解めっきetc)~ホトリソ(写真製版)~エッチング(ドライやウェット)~レジスト除去,を行います。

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  • 回答No.1
noname#211914
noname#211914

以下のサイトが参考になります。 1.http://ttl.info.co.jp/tech3.html (東京エレクトロン東北) ご参考まで。

参考URL:
http://ttl.info.co.jp/tech2.html

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