締切済み

基盤に付着した酸化シリコンの定量化

  • すぐに回答を!
  • 質問No.9456886
  • 閲覧数70
  • ありがとう数0
  • 気になる数0
  • 回答数1
  • コメント数0
はじめまして,皆様方の経験・知恵をお借りしたく,投稿させて頂きました。
接触式センサーにおいて,シロキサンガス接点障害に関するタフネス試験を行っております。酸化シリコン(sio2)が付着した際,接点障害になるメカニズムは勉強し理解できたのですが,その次のステップとして,接点障害になる際の酸化シリコン付着量を定量化したいです。

?基盤に付いた酸化シリコンを定量化する最適な方法をどなたか教えていただけますでしょうか。
?定量化できるなら,使用する単位は何が適しておりますでしょうか?

(個人での調査結果)
?素人ながら,いろいろ解析方法を調査したところ,
EPMA解析を使えば付着量濃度がわかるそうですが,SiとO2で分離して濃度測定結果が出る可能性があります。その場合,酸化シリコン(sio2)として正確な値とはならないと思うので,その辺の解釈に関してご存知の方はご教授願います。
?gなら理解しやすいのですが,ppmなら取り扱いかた(考え方)で注意が必要かもしれません。事前に調査しておくべき事があれば,ご指摘いただけますでしょうか。

以上,大変不躾ですが,皆様方のご教授をお待ちしております。宜しくお願いします。

回答 (全1件)

  • 回答No.1
接点に付着した酸化ケイ素を定量したいのであれば、接点部分を酸で溶解させてICPでSi量を定量してはどうでしょうか?
SiとOの比率を補正するなら酸化ケイ素(シリカ)粉末を標準試料として
分析してはどうでしょうか?(EPMAでも同じかな?)
結果を報告する
このQ&Aにはまだコメントがありません。
あなたの思ったこと、知っていることをここにコメントしてみましょう。
関連するQ&A
AIエージェント「あい」

こんにちは。AIエージェントの「あい」です。
あなたの悩みに、OKWAVE 3,600万件のQ&Aを分析して最適な回答をご提案します。

その他の関連するQ&A、テーマをキーワードで探す

キーワードでQ&A、テーマを検索する

ピックアップ

ページ先頭へ