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TEOSと酸素の反応について

半導体の製造でTEOSと酸素を使って酸化膜を成膜する工程があると思いますが、成膜された膜は完全なSiO2となるのでしょうか？それとも一部炭素などが混入した組成となるのでしょうか？ どなたか回答をお願いいたします。

  • guda
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  • TEOS
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回答No.1

私のハンドルネームは、正珪酸エチルから取っているのですが、ＴＥＯＳがほとんどの方が、何か判らないと思います。　 本題のＣＶＤの件ですが、ちゃんとやればＳｉＯ２の膜になると思いますが、燃焼反応しながらに膜になるそうなので、異物の混入とかの阻害要因がでそうです。 私自身が、ＣＶＤの経験が無いので、聞いた話ですけど。 私の担当は、原料の製造なので、ＴＥＯＳもオマケで 出来てしまいます。　要らないから捨ててしまってます。 私が作っている物を、大気中に置いておくと　容易に ＴＥＯＳに変わってしまうのですよね。 成膜なら　ＴＥＯＳの方が良さそうですね。 加水分解もほとんど無いし　使いやすいし　キロ数百円で、買えますしネ。　私が作っている物は、高額だから 分解したら、大損害だから。 酸素ガスは、危ないので　ご注意してやって下さいね。　　　 　　　　

guda
質問者

お礼

回答ありがとうございました。 SiCOになる話を聞いたのでちょっと混乱してました。 条件がそろえばSiO2になるんですね。

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