TEOSと酸素の反応について

質問

半導体の製造でTEOSと酸素を使って酸化膜を成膜する工程があると思いますが、成膜された膜は完全なSiO2となるのでしょうか？それとも一部炭素などが混入した組成となるのでしょうか？
どなたか回答をお願いいたします。

回答No.1

TEOS

私のハンドルネームは、正珪酸エチルから取っているのですが、ＴＥＯＳがほとんどの方が、何か判らないと思います。　

本題のＣＶＤの件ですが、ちゃんとやればＳｉＯ２の膜になると思いますが、燃焼反応しながらに膜になるそうなので、異物の混入とかの阻害要因がでそうです。
私自身が、ＣＶＤの経験が無いので、聞いた話ですけど。

私の担当は、原料の製造なので、ＴＥＯＳもオマケで
出来てしまいます。　要らないから捨ててしまってます。
私が作っている物を、大気中に置いておくと　容易に
ＴＥＯＳに変わってしまうのですよね。

成膜なら　ＴＥＯＳの方が良さそうですね。
加水分解もほとんど無いし　使いやすいし　キロ数百円で、買えますしネ。　私が作っている物は、高額だから
分解したら、大損害だから。

酸素ガスは、危ないので　ご注意してやって下さいね。

お礼

回答ありがとうございました。
SiCOになる話を聞いたのでちょっと混乱してました。
条件がそろえばSiO2になるんですね。