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TFTが出来るまで...
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イオンドープ:不純物をドーピングする装置です。半導体ではイオン注入（ion implantation）とよくいいますね。恐らく初期のTFT用のものはイオンの質量分析をしなかったため、implantationではなくdopingといったのではないでしょうか。ちなみにTFTプロセスではソース／ドレイン形成に使用します。 レーザーアニール：これは低温ポリ特有のプロセスでしょう。アモルファスシリコンに照射して局所的に溶融・結晶化させ、ポリシリコンを形成します。ガラス基板を使用するために基板全体を高温にできない、という制約から考えられた方法です。
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