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半導体のアルミ配線に含まれる銅は悪さしないのでしょうか？
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Al内のCuはSiO2内のCuみたいには拡散しないんで、CuがAl内にいる限りは大丈夫なんですが、とはいってもやっぱりちょっとずつCuがSiO2に染み出てきて悪さします。 というわけで、Cuを含むAl配線でも普通は拡散防止のバリア層（Taとか）をもうけます。
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- KEN_2
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アルミ配線には銅が含まれているのは高速度動作の目的で、銅は悪さをしますので 銅の拡散防止には特別のプロセスの工夫が必要です。 銅配線での採用にはエルピーダメモリが最先端技術でD_RAMの高速化を図り実用化 しています。 銅配線を採用した技術は発表されていますが、概要の内容で具体的な説明はありま せんので、私にはここで解説できません。 雑学ですが、アルミ配線もUHF帯のパワーTRに使用すると数年でアルミ配線が細く 痩せて切断した事故が多発しました。 当時金配線が高価でしたので、アルミ配線を採用した様ですが大量の配線断発生で 金配線に戻したメーカ製品がありました。 ＊たぶん充分な信頼度の技術で達成しているのでしょうが、問題が発覚するのは 数年後の市場に行き渡ってからの実績が証明されると考えます。
お礼
ご解答ありがとうございます。しかし、私の説明に不足があったようです。半導体のウエハー工程で使用するAlは、実際はAl-CuあるいはAl-Si-Cuだと聞いています。すなわち純粋なAlでは無く僅かなCuが含まれているようです。このAlに含まれるCuは悪さをしないのでしょうか？ KEN_2さんの回答は、これはこれで勉強になりました。ありがとうございます。
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