• ベストアンサー

エッチング

例えば純度が高いシリコンをエッチングする場合と、 不純物を含んだシリコンをエッチングする場合では 不純物を含んだシリコンの方がエッチングレートが早いと 聞きました。 原理的にどのような事が起こっているのでしょうか? 詳しい方がいらしたら教えてください。

  • 化学
  • 回答数1
  • ありがとう数1

質問者が選んだベストアンサー

  • ベストアンサー
noname#160321
noname#160321
回答No.1

詳しくはありませんが、常識的なところで…。 不純物をふくむ物質は、1)粒子の境界が有ることが多くその境界部分が容易に浸食されます。2)境界が無くても不純物が不均一に固溶していれば、全体に「電位差」が生じ、これが浸食を容易にします。

関連するQ&A

  • KOHのエッチング原理について

    シリコン基板をアルカリエッチング液を使ってエッチングするとき、アルカリエッチング液としてTMAHを使用した場合とKOHを使用した場合では、KOHの方が100面エッチングレートがとても早いです。 KOHの100面エッチングレートがTMAHより早くなる理由(メカニズム)について、どなたか情報を頂けないでしょうか? お忙しいところ申し訳ありませんが、宜しくお願い致します。

  • KOHを用いたSiエッチングについて

    KOHにおける、シリコン(Si)と熱酸化膜(SiO2)のエッチング選択比は、100:1というのを聞きました。 たとえばSiのエッチングレートは上げて、逆にSiO2のエッチングレートは下げたい(選択比を変えたい)場合、有効な手法はありますか? KOHの濃度、温度を変えるとよいのでしょうか? ご回答、宜しくお願い致します。

  • フッ酸によるシリコンのエッチング

    エッチング素人です。 フッ酸によってシリコンウエハをエッチングした場合、 どのくらいの表面粗さを得ることができるのでしょうか? Ra:1nmは可能でしょうか? 解答よろしくお願いします。

  • エッチングについて教えてください。

    シリコン・ウエハーをKOHエッチングし、薄膜を製作した過程です。 1.窒化ケイ素のLPCVD析出. 2.被膜(レジスト層)をスピンコーターで製膜し、露光、現像する. 3.プラズマで窒化ケイ素をエッチングする. 4.被膜(レジスト層)を取り除く. ということらしいのですが、どういうことなのでしょうか? いろいろ調べたのですが全く分かりません。 エッチングというものは、加工する材料の表面を腐食させる方法?という大雑把なことしか分かりません。 よろしくお願いします。

  • 金属線のエッチングについて

    金属の細線をエッチングすると先端径の非常に小さい針ができるそうなのですが、その原理や詳しいノウハウを知っている方がいましたら是非教えていただきたいです。よろしくお願いします。

  • プラズマ密度とエッチングレートについて教えてください!

    ドライエッチについて教えてください。 圧力が高いとプラズマ密度が高くなりエッチレートが高くなると考えています。しかし、実験を行うと圧力が低いほどエッチングレートが高くなり、均一性がよくなりました。実験は、平行平板を用いて、被エッチング膜は、SiNとSiOです。 このメカニズムがわかりません。 また、SiNのエッチング反応式がよくわかりません。 宜しくお願いします。

  • フォトエッチング゙の原理について

    こんばんは!ゆうかと言います。初めて投稿します。 早速ですが、フォトエッチングの原理・しくみ・流れについて 詳しい内容を知りたいのですが…。 どなたかお願いします! また、エッチングしやすいし・しにくい金属についても併せて教えて下さると嬉しいです(^^) ではでは、みなさん、よろしくお願いします。

  • シリコンウェハについての質問です。

    シリコンウェハについての質問です。 シリコンウェハにはp型とn型がありますよね。 それぞれの違いについて、含まれる不純物が違うというところまではわかったのですが、 具体的にどのように性質が違うのかを教えてください。 ちなみに私は、シリコンナイトライドを製膜したシリコン基板を ドライエッチング、ウェットエッチングを用いて薄膜にして その薄膜にナノポアを開けてデバイスにするという作業を行っています。

  • エッチングネームプレートのめっき処理について

    エッチング銘板のネームプレート等のめっき処理についての質問です。 真鍮などの金属をエッチング処理して、凹の部分に塗料を入れて その後、めっき処理を外注します。 最近とくに多いのですが、めっき処理から帰ってくると 凹部分の塗料が、部分的に剥がれてしまう事があります。 めっき処理をしている外注先の話では エッチング後の洗浄が十分では無いと言うことなので、 エッチングされた部分に不純物が残っているのではないかと言うことです。 エッチング後の洗浄は、希塩酸を使いスポンジで表面を洗浄し マスキングレジストの剥離に苛性ソーダを使用し その後は、水道水を利用したスプレー式の洗浄機器を通しています。 洗浄に関しては、十分行っていると思うのですが それでも塗料が剥がれてしまうと言うのは 上記の洗浄工程に問題があるのでしょうか? また、それ以上に有効的な洗浄方法や特殊な薬品などをご存じの方が いましたら、教えていただけないでしょうか? ちなみに、エッチングは塩化第2鉄溶液を使用しています。 どうぞよろしくお願いいたします。

  • GaAsのエッチングについて

    GaAsを強酸または強アルカリと,過酸化水素の混合溶液でエッチングができるそうなのですが, GaAsが化合物半導体のため,エッチングに異方性が生じると思います。 例えばアンモニア水と過酸化水素を用いてエッチングした場合,<100>面が優先的にエッチングされる・・・という特徴などがあるのでしょうか? ご解答の程,よろしくお願い致します。