AlN基板ホルダーの洗浄方法と業者探し

このQ&Aのポイント
  • 真空成膜装置の基板ホルダーに付着したCu膜を洗浄する方法を探しています。
  • 洗浄後に再度真空装置内で使用するため、AlNのダメージが心配です。
  • AlN基板ホルダーの洗浄を行ってくれる業者をご存知の方、教えてください。
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AlNについたCuを洗浄で落としたい

真空成膜装置の基板ホルダーとしてAlNを使っています。 このAlNの上にCu膜がついているので、洗浄で落としたいのですが、 このような洗浄をやってくれる業者を探しています。 (おそらくウエット処理になると思います。AlNのダメージがどのくらいになるかが心配です。 また洗浄後、再び真空装置内にいれて、再度使用します。) ご存知の方、教えてください。 よろしくお願いします。

noname#230358
noname#230358

質問者が選んだベストアンサー

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noname#230359
noname#230359
回答No.5

硫酸 2025vol%、過酸化水素 23vol%で、室温30℃で作業します。 反応で発熱しますので、冷却が必要かも知れません。温度が高くなると過酸化水素が自己分解して、暴走することもありますが、液に対する負荷がそんなに高いとも思えないので、まず大丈夫でしょう。

noname#230358
質問者

お礼

ご回答ありがとうございます。 まず試しに少しやってみます。 いろいろありがとうございました。

その他の回答 (4)

noname#230359
noname#230359
回答No.4

窒化アルミニウムなら、一般の酸に対しては安定だと思います。 硝酸とは書きましたが、亜硝酸ガスが発生するので余りお勧めできません。硫酸+過酸化水素+水は多少ミストが発生しますが、剥離速度が魅力です。 アンモニア水+過酸化水素+水も剥離速度で魅力的ですが、アンモニア臭と排水処理の困難さがついてきます。 よって、排気設備を用意して頂いて、硫酸+過酸化水素系をお勧めします。

noname#230358
質問者

お礼

ご回答ありがとうございます。 できましたら具体的な硫酸+過酸化水素の濃度、混合比、注意点など教えてください。

noname#230359
noname#230359
回答No.3

銅を溶解除去するのなら、単純に硝酸や、硫酸+過酸化水素水で可能です。 AINがどんな材料なのか判れば、もっと正確にお答えできるのですが。

noname#230358
質問者

補足

ご回答ありがとうございます。 AINではなくAlNです。(念のため) 一般的には以下のような特性のようです。 http://www.maruwacera.co.jp/e/seihin/pdf/catalog/aln/aln.pdf

noname#230359
noname#230359
回答No.2

物理的な研磨でも良いのですか? ブラシで研磨可能です。 ブラシの選定、加工方法によっては基材を痛めずに研磨可能です。(膜よ基材の硬度差がある場合。) ブラストでも同様です。 その他にも、ご興味が有ればご連絡下さい。 ご相談に乗ります。

参考URL:
http://www.ctktv.ne.jp/~s-nomura/public.htm
noname#230358
質問者

お礼

ご回答ありがとうございます。 残念ながら物理的な研磨はダメージが入るのでできません。 このAlNの表面には非常に微妙な加工がしてあるので、 傷がつく方法は問題があります。 それなので洗浄(塩化第二鉄?)がよいのですが...

noname#230359
noname#230359
回答No.1

洗浄で落とすとなると確かにダメージが心配だと思います。ですので、AlN基材上に溶射膜をつけてその上にCu膜を付けます。そうするとAlNにほとんどダメージを与える事無く除膜洗浄可能です。溶射膜でもいろいろな種類がありますので、目的に応じたものを適用できると思います。半導体や液晶のスパッタシールド等ではこの方法が主流となっています。 一度詳細お聞かせください。

noname#230358
質問者

補足

ご回答ありがとうございます。 このAlNにはなぜか溶射膜がついていません。 今となっては、なぜないかはわかりません。 ついていても問題はないのかもしれませんが、 特性が変化する可能性があるのが心配です。 それなので、今のところ溶射膜なしでいきたいのですが....

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