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バッファ層の選び方
薄膜作成時のバッファ層の選び方は、主に格子定数からの選定でしょうか。他に考えられる要素はどのようなものがありますか。
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青色発光ダイオードの実現に使われる窒化ガリウムの結晶をCVD(化学気相成長法)で作るときには、 ケイ素金属ウェハー(シリコンウエハー、Siウェハー)の上にそのまま成長させようとしても、Si 金属結晶の結晶格子(原子間距離・角度など)に窒化ガリウムの結晶構造が合わずに成長しなかったため、 シリコンウェハー上に、Siにも窒化ガリウムにも互いによくにた格子定数のバッファ物質の層をあらかじめ形成しておくことで間を取り持ってもらうことができ、窒化ガリウムの格子欠陥が少ない結晶を得られるようになり、青色LEDの実用化・製品化に大きく進展した、 という件でしょうか。