• 締切済み

金属・半導体接触

いくつか質問します。 1.p型半導体の仕事関数はいくらですか? 2.p型半導体とオーミック接触となる金属とその理由 3.オーミック接触とショットキー接触の電流―電圧特性の違いと、その測定方法 かなり専門的な質問で申し訳ないですが,回答お願いします。

みんなの回答

  • mmky
  • ベストアンサー率28% (681/2420)
回答No.4

#2mmkyです。#3damakさんの指摘どおりですね。 仕事関数の定義は、金属表面から電子が飛び出す時のエネルギーだよね。 0.35Vや0.25Vであるわけないよね。半導体間接合面の電位障壁(閾値)は差分だよね。差分と間違えました。ごめん。 金属とP型半導体の仕事関数差(差分)だとこのぐらいになるのかな。 でもP型のキャリヤ濃度でずいぶん変わるね。 金属の仕事関数は#3damakさんの参考URLにありますね。 金属と半導体の仕事関数差は、以下参考URLにあります。 http://homepage2.nifty.com/~nyath/semiconductor/2.13.html http://homepage2.nifty.com/~nyath/semiconductor/contents.html 訂正まで damakさん、ありがとう。

  • damak
  • ベストアンサー率0% (0/5)
回答No.3

前回の参照元の続きに 各金属、半導体の値が載ってました。↓ 前回参照元と併せてご参照ください。 #2さんの理論をいくつか 覆してしまうかもしれませんが・・ ご参考になれば幸いです。

参考URL:
http://www.ee.fukui-nct.ac.jp/~yoneda/text/other/simulation/Schottky/theory_06.htm
  • mmky
  • ベストアンサー率28% (681/2420)
回答No.2

#1さんの回答と参考URLがあるので、 参考まで 1.p型半導体の仕事関数はいくらですか? シリコン半導体ですとPN接合で0.7Vですから半分の0.35Vがフェルミ 電位との差です。ゲルマニュームは0.5の半分かな。 2.p型半導体とオーミック接触となる金属とその理由 金、銀、アルミなどの自由電子のいっぱいある導体  (理由#1さんのURLを参考に) 3.オーミック接触とショットキー接触の電流―電圧特性の違いと、その測定方法(理由#1さんのURLを参考) 測定方は、ダイオードのアノードに抵抗と電流計を直列につなぎ、ダイオードのカソードをアースに接続します。抵抗に直流電圧をかけます。その電圧を0Vから増やしていきます。抵抗に流れる電流と、ダイオードの両端の電圧を測ると(#1さんのURLを参考)のような電圧電流特性が得られます。 以上 参考まで

  • damak
  • ベストアンサー率0% (0/5)
回答No.1

1は構成元素によって異なるので 半導体関係の書籍を参照すると 載ってます。 ↓2,3の参考にしてください。 雑な返答で申し訳ない

参考URL:
http://www.ee.fukui-nct.ac.jp/~yoneda/text/other/simulation/Schottky/theory_02.htm

関連するQ&A

  • 半導体工学

    p型半導体、n型半導体のそれぞれの場合において、ショットキー接触の場合、金属と半導体のどちら側に正電圧を印加すれば順バイアス状態となりますか??

  • 半導体に関する質問です。

    金属と半導体の接触において、p型半導体と金属のオーミック接触の原理が理解できません。n型半導体と金属のオーミック接触は理解できたのですが、p型になるとわかりません。n型の場合は、電子の動きを考えればいいので、金属からn型半導体に電子が動いて、フェルミン準位が増加するので、バンド図で、フェルミン準位が上がるのがわかります。ただp型の場合は、正孔を考えなければなりません。ただ、金属は電子しか移動しないので、どのように金属と半導体の間の正孔のやりとりを考えたらいいのでしょうか?金属から半導体へ、または半導体から金属へ、正孔が移動すると考えられるのでしょうか?参考書などを見ると、「n型と同様に考えると」っとしか書いておらず、私には理解できません。すいませんが、教えてください。お願いします。

  • 半導体の抵抗

    半導体に電流を流し、電圧を測定しました。始め、ある方向に電流をながし、次に始めに電流を流した方向に対して90度回転させた方向に流しました。すると、異なる測定結果が得られました。これは半導体は方向によって、電流の流れ易さが異なることを意味していると思うのですが、半導体の結晶構造が原因なのでしょうか?

  • 化合物半導体の電子親和力

    金属-化合物半導体接触のショットキー障壁を見積もるため金属の仕事関数(フェルミ準位と真空準位との差)と化合物半導体の電子親和力(伝導体底と真空準位との差)を調べています。 金属の仕事関数は文献で調べられたのですが、化合物半導体の電子親和力はどうしても見つけることができません。適切な文献やサイトをご存知の方がいらしたら教えてください。また、計算により求めることができるのであれば、その方法についても知りたいです。 尚、対象としている化合物半導体は、GaN、SiC、GaAsなどのワイバンドギャップ半導体です。

  • 半絶縁性の半導体と金属との接合について

    半導体の教科書で、n型(またはp型)の半導体と金属の接合に関する整流特性は記載がありますが、半絶縁性の場合はどうなるのでしょうか? 具体的には半絶縁性SiCと金の接合の場合の整流特性が知りたいです。 参考文献も見つけることができず、困っています。ご教示、よろしくお願いいたします

  • 半導体と半金属の違いは?

    こんばんは。 「半導体と半金属の違いは何か?」 わかる方教えて下さい。 半導体は他の半導体や金属と接合したりすると条件によって電気を通すようですが、半金属は違うのでしょうか? 専門知識が無いので出来れば簡単に説明をお願いしたいです。 よろしくお願いします。

  • ショットキー障壁の幅について

    ただいま有機ELを勉強中なのですが、ショットキー障壁の「幅」について質問があります。 例えばn型半導体と金属の接触の場合、半導体のほうにイオンを注入することで、ショットキー障壁の幅が小さくなり、さらにトンネル効果により、オーミック接触になると書いてあるものを発見したのですがそれはなぜなのでしょうか? イオンが電極と半導体との界面に集まることで障壁の幅って狭まるものなのでしょうか?不思議でならないです・・・ どうか、よろしくお願いします。

  • 半導体について

    半導体の実験をしました。 不純物半導体に電圧をかけて、電流電圧の変化を見るというものなのですが、この変化は小さい電流値では直線性を示していたのに、高くなってくると電圧が直線より大きい値をとるようになりました。 よろしくお願いします。

  • オーミック接触とは?

    間の抜けた質問のようで申し訳ないのですが、オーミック接触ってどんな時に重要なのでしょうか? 整流性の無い金属-半導体接触だというのは分かったのですがそれ以上のことを書いてあるサイトが見つけられませんでした。 どうか詳しい方、ご教授下さい。よろしくお願いします。

  • 半導体について質問です。

    半導体について質問です。 エミッタとコレクタはN型半導体であるため電子が過剰にあり、ベースはP型半導体であるため電子が不足しているとします。 このとき?エミッタとコレクタ間に電圧をかける?エミッタとベース間に電圧をかける等の制御により、トランジスタ内で電流が流れるか、流れないかをコントロールし、この電流のONOFFがコンピュータの1or0に相当して、コンピュータが演算を行えるという理解は概ね正しいのでしょうか?お願いします。