真空雰囲気での熱流体解析について

質問

半導体製造装置の設計しているものです。
現在、熱流体解析ソフトの導入し、チャンバ形状やヒータの熱解析等を検討しようと考えています。
ただ一点気になっているのは、半導体製造にはチャンバ内を真空状態で使用することが多くあるのですが、市販の熱流体解析ソフトは、雰囲気が粘性流域⇔中間流域⇔分子流域と変化しても対応しているものでしょうか？
熱流体解析ソフトは使ったことが無いので、何方か御教授下さい。
よろしくお願いします。

回答No.2

noname#230359

ぶひょんさんに同意見です。
真空＝対流無し（理論ですが、、、）
なので、熱伝達は無視して、熱伝導と輻射が要因になると思います。

本文から「ガス中の分子レベルの輻射を考慮したソルバ」が必要と考えますが、あるのでしょうか？一般的にCAEをしている者ですが聞いた事がないです。（質問に対して質問になってしまいますが、あるのであれば教えて頂けると助かります。よろしくお願いします。）

回答No.1

noname#230359

熱流体解析ソフトは使用したこと無いので、
アドバイスになってしまいますが、

真空下と言うことは、流体での考えは通用しません。
分子流になると、
熱を移動してくれる気体分子が非常に少なくなるのです。
その状態で、熱の移動は、輻射と伝導でしか伝わりません。
対流は圧力が低下するに比例して無くなります。

したがって、熱伝導と輻射の計算をする必要が出てきます。
これは、形状さえ決まってしまえば、
ある程度計算できるのでは無いでしょうか。

お礼

ありがとうございました。