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MOSFETのゲート酸化膜(SiO2)の結晶構造について
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ウエハー等にエッチングした物を結晶構造見るのは、断面を電顕写真で 見るのが良いのかな?? エッチングした物を削り取り、溶剤に溶かし シリコンNMR採るのが良いのだろうか?? CVD自分でしたことが無いから。 IRも採れないよね。 半導体メーカー、文章のみの文献で、測定結果付きの資料は出してない 気がします。 有っても売り込みたいメーカーのみにパスワード付きで 公開してます。 私の会社でも、ログインしないと見れない文献有りますからね。 外部(社外)からログインすると、誰が見たのか監視してるみたい? あまり参考にならないね?
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- nzw
- ベストアンサー率72% (137/189)
MOSのSiO2ゲート酸化膜は非晶質です。 TEM写真をとると、Si基板部分は単結晶の格子像が、ゲートのポリシリ部分は色々な方位の格子像が写るのに対し、ゲート酸化膜部分には格子像が見られません。 ちょっと見にくいですが、以下のサイトの写真でもわかるかと思います。 http://jp.fujitsu.com/group/fql/services/analysis/method/tem/ SiO2酸化膜(最近はNを混ぜていると思いますが)は、非晶質であるため その上に単結晶Siをエピタキシャル成長することが出来ません。これが SOI構造をつくるために、酸素注入(SIMOX法)や張り合わせなど面倒な ことが必要になる理由です。 論文については、以下の回答にあげたサイトで調べてみてください。 たぶん、APLとかThin solid filmsとか、IEEE系あたりでみつかると 思います。 http://oshiete1.goo.ne.jp/kotaeru.php3?q=2031072
お礼
丁寧な説明をしていただき、ありがとうございます。 MSTの二酸化ケイ素(SiO2)の構造解析 http://www.mst.or.jp/010317.html を参考にしようかと思います。 また、論文でも引き続き、CVDでつくった酸化膜のラマン分析結果を探そうと思います。 ありがとうございました。
- leo-ultra
- ベストアンサー率45% (228/501)
シリコン素子に使われるSiO2って結晶じゃなくて非晶質なんじゃないのですか? それとも僕の知識は古いのでしょうか? 先日、たまたま知り合いの紹介で、某大学の教授でシリコンデバイスのシミュレーションをやっているという先生とお会いしました。たまたま帰る方向が同じだったので電車で2人だけでお話しました。その先生もSiO2がさも結晶のようなことを言っていました。非晶質じゃないのですかって聞いたら、そんなはずはないと否定されてしまい、そこで「王様は裸だ」とも言えず、話題を変えてしまいました。 あれ、僕の勘違い? SiO2ってアモルファスじゃないの!
お礼
(先生の名誉のために)私の先生は、アモルファスだろうといっていたのですが、やはり確認を取りたかったのと、アモルファスにも作り方によっていろいろ違うらしいのです。 私の質問に答えていただいて、本当にありがとうございます。
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