イオンビーム技術について・・・

質問

こんにちわ！僕は大学３年でイオンビーム技術に興味を持ち、調べようとしたのですが、学校においてある文献の内容が重くてなかなか理解できませんでした。。イオンビーム技術とはいったいどんな技術なのでしょうか？？イオン注入法とは違うのですか？
その他種類や原理などご存知の方、どんなことでもいいのでよろしくお願いします！！

回答No.1

Massy57 · ベストアンサー

なかなかお答えしがたいご質問ですね。
もしかすると規約違反ということで削除対象かもしれませんね。
大学３年生なら、「ご自分で調べたら」というのが最良の答えかも知れません。しかし取っつきわるく、せっかくこの分野にすすもうという希少な方がいなくなると、日本の半導体製造業がますます、韓国、台湾に後れを取る（杞憂か）のもいやなので、簡単な答えをします。あとはご自分でおしらべください。
イオンビームとはイオンの流れ（いわゆるイオンビームですね）を空間（通常真空空間ですね）に直流の高電圧を用いて引き出したもので、それをターゲットに照射し、イオンとターゲットとの間に生じる現象を利用するものを一般にイオンビーム技術といいます。
この中で、特に引き出し電圧を高くすることによって、イオンに与えるエネルギーを高い物にすると、イオンはターゲットの表面に留まらず、ターゲット内部まで一定の法則に従って入り込むものを特にイオン注入と呼びますね。イオン注入は通常半導体へドーパントをドーピングし、価電子制御することにもいます。
イオン注入以外は、イオンビームとターゲット表面との相互作用を利用します。エネルギーが低いとターゲット表面にイオンが中性化した物質が堆積されるイオン蒸着、エネルギーが高くなると、ターゲット表面に物質が堆積されず、逆にターゲット表面が削り取られる、イオンミリングやイオンエッチング（同じ事ですね）、さらにはターゲットから削り取られた物質をターゲット近辺に設置した基板上に堆積させるのがイオンスパッタリングですね。
これらが代表的なイオンビーム技術だとおもいます。イオン源はいろいろありますが、要は物質に外部からエネルギーを与えイオン化させ、それを高電圧をかけそとに引き出すだけです。

お礼

Massy57さん、早速のお返事本当にありがとうございます。しかも本当に丁寧なご回答感謝しています。
大まかに言えばイオンビーム技術において起こる現象がイオン注入であったり、イオン蒸着、スパッタリングであり、それらを用いるの総称してイオンビーム技術という、というような解釈でよろしいのですか？？
やはりこの手の分野は奥が深いですね。
実は僕はバイオセンサーを専攻する予定なのですが、今回のイオンビーム技術が応用できないかと思い、質問させていただきました。
本当に丁寧なご回答ありがとうございました。。