ITO基板の洗浄について
- ITO基板の洗浄にはUV/オゾン洗浄機と酸素プラズマ洗浄機が利用されます。
- UV/オゾン洗浄機は、UV光とオゾンによって表面を浄化し、有機物や微小な不純物を除去する効果があります。
- 一方、酸素プラズマ洗浄機は、高エネルギーの酸素プラズマを用いて表面を浄化し、静電気を取り除く効果があります。
- 締切済み
ITO基板の洗浄
透明電極ITO付ガラス基板の洗浄機選択で迷っています。UV/オゾン洗浄機と酸素プラズマ洗浄機それぞれの利点・欠点はなんでしょうか?
- その他(表面処理技術)
- 回答数1
- ありがとう数0
- みんなの回答 (1)
- 専門家の回答
みんなの回答
関連するQ&A
- アセトン洗浄について
Siウェハーまたはスライドガラスの表面の洗浄なのですが、本来は酸素を流しながら、UV放射を行い、このときにできるオゾンで表面にある有機性分子を破壊したいのですが、その装置が手に入りません。そこで、有機溶媒を溶かし、さらに揮発性のあるアセトンを使用すればそれに換わるものになるかと思うのですが、可能なのでしょうか?
- 締切済み
- 化学
- 蒸着前の基板の洗浄方法
ガラス基板にアルミを蒸着しフォトレジストを塗布し、現像、エッチングをしたいと考えています。 一通り作業を行ったのですが、現像の際にアルミの膜が基板から剥れてしまいました。 これは蒸着前の基板の洗浄が問題ではないかと考えています。 どなたかガラス基板の良い洗浄方法をお教えください。 現在私はアセトン、エタノール、純水(超音波洗浄)で洗浄しております。 よろしくお願いします。
- 締切済み
- メッキ
- ITOスパッタ装置
ITOスパッタリング装置を探しています。 産業分野:パネル ガラス基板サイズ:1300x1500mm 出力時間:45秒/トレー 装置に関する資料は以上で、 もし似てる装置がありましたら教えて下さい。 ありがとうございます!
- 締切済み
- その他(表面処理技術)
- 低抵抗ITO薄膜の成膜可能なメーカー
研究試験用に低抵抗のITO薄膜をガラス上に成膜してくれそうなメーカーを探しております。 ITO皮膜の条件としては,表面抵抗が2±1Ω/□で透過率も80%近くあることです。また,基板ガラスは,通常のソーダガラスで,大きさは12in角です。ルーチンではなく試作で十分ですので,試験的に少量(130枚)ガラス上に成膜してくれるようなメーカーをご存じの方,ぜひ教えてください。
- 締切済み
- ガラス
- プラズマ洗浄について
よろしくお願いします。 プラズマ洗浄について勉強しており、ネットにて調べてたのですが、微妙にニュアンスの違う解釈や説明があり分からないことが出てきたので以下に質問させていただいております。 1、 プラズマとは電極に高電圧をかけて放電を持続させた状態であり、且つ「電子と正イオンが同じ数で電気的に中性」な空間のことと認識してよいのでしょうか? 2、 プラズマ中(放電中?)はその空間が紫色に見えるのは正イオンの色と認識してよいのでしょうか? 3、 洗浄面は、「イオン」の衝突によってエネルギーをもらうことで活性化されると認識して用のでしょうか? 4、 活性化された表面は濡れ性が何倍にもなるという仕組みは、具体的に(原子レベルで?)どう考えればよいのでしょうか? 5、 プラズマ空間に酸素とアルゴンを注入している場合、電離しているのはどちらなのでしょうか?不活性ガスのArはプラズマになる(?)のでしょうか? どうぞよろしくお願いいたします。
- 締切済み
- 物理学
- 基板上での薄膜形成について
Si基板とガラス基板にそれぞれ薄膜(同じもの)を作製したいのですが、基板の洗浄についての質問です。 Si基板:とある文献には濃硫酸:過酸化水素水=3:7、70℃、1hと書いてあったのですが、一般的なRCA洗浄は必要ないのでしょうか。 ガラス基板:溶剤+純水?でいいのでしょうか。 薄膜を形成するプロセスは交互吸着法です。 その他、何か注意するべき点などがあったら教えて下さい。 ど素人なもので、よく分かりません。 宜しくお願いします。
- 締切済み
- ガラス
- プラズマ洗浄
テフロン基板のワイヤボンディング性向上の為、プラズマ洗浄(方式:RIE、使用ガス:Ar)を行ったのですがパターン間(絶縁のはずが)に微少リーク電流があります。プラズマ洗浄に関しては初心者で原因がわからず悩んでいます。基本的なことから教えていただければ大変嬉しいです。
- ベストアンサー
- その他(表面処理技術)