スパッタ法による成長速度と真空度の関係を教えて下さい

質問

現在，卒業研究でスパッタ法による薄膜堆積を行っています．実験を行う前に，真空度の変化に対して成長速度がどのように変化するかを調べたかったのですが，私が見た参考書では，その事について書かれていませんでした．
もし，スパッタについてよく知っている方がいらしたら教えて下さい．

回答No.1

tetujin3

気相中での粒子の衝突を考えてください。
とくに，ガス分子との衝突は成長速度に大きな影響を
及ぼします。
しかし，粒子が衝突しないで飛行する工程（フリーミーンパス，平均自由工程）が短ければ，スパッタ粒子（クラスター）が衝突により，さまざまな方向へ飛行するようになり，ターゲットの影の部分のつきまわり姓が向上します。

したがって，膜の成長速度は，真空度，基材と蒸着源との距離，基材の形状などの因子が支配的です。