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伝導性ガラスについて
noname#3136の回答
いずれも知識が曖昧なのですが。。。 スパッタリング法は、真空成膜法のひとつですね。金属や誘電体などの無機化合物に高電圧をかけ、プラズマ状態にして叩き出し、成膜対象に膜として形成する方法です。(だったはず) ITOはIndium Tin Oxideのことです。和名は酸化インジウムスズだったかな?透明導電膜として非常に一般的です。 ゾルゲル法は、金属酸化物の薄膜を溶液から形成する方法です。例えば、シリカの薄膜を形成するのであれば、Si(OR)4などのアルコキシシランのアルコール系溶液を出発原料とし、ゾル溶液としたのちに塗布・乾燥してゲル化させます。これを高温焼成することでアルコキシ基の脱水縮合が進行し、シロキサン結合が形成されます。触媒の添加によって反応は加速されます。 すみません、いずれも知識が曖昧なので、間違い等もあるかと思います。 でも、おおまかには以上の通りだと思います。
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