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ホール効果の大きさを表すホール係数R_H(ホール電圧の大きさはかけた磁束密度と流した電流密度の積に比例するわけですが、その比例係数がR_H)がSI単位系だと-1/neと書けることはご存知ですか?もしご存じなければ、大抵の固体物性の教科書に載っていますので(高校の物理の参考書に出ていたのを見たこともあります。)御覧下さい。ここに導出を全部書くのはしんどいです。 これさえ解っていれば、典型的な金属のキャリヤ濃度は10^29[m^-3]位ですので計算してみてください。eは素電荷で大体1.6*10^-19[C]です。半導体の場合はキャリヤ濃度は不純物ドープ量によるわけですが、不純物の割合が0.1%、キャリヤ濃度にして10^26[m^-3]以上にすることはあまりないと思います。ですから金属のホール係数は大きくても半導体の1000分の1以下ですね。普通に使う半導体では、この差はもっともっと大きく、10桁近く違う場合もあります(要するにドープ量で変わる)。 キャリヤが複数ある場合は多少複雑になりますが、上に書いたことが大きく変更を受けることはまずありません。
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- vortexcore
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見られないことはありませんよ。ただ、ホール係数はキャリヤ濃度に反比例するので、キャリヤ濃度の大きな普通の金属のホール電圧は、半導体に比べるとべらぼうに小さくなります。
補足
定量的に答えてもらえると分かりやすいのですが
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お礼
よく分かりましたありがとうごさいます。