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半導体製造装置(ステッパー&MPA)の構造について
キャノン製の半導体製造装置(ステッパー&MPA) を元にお伺います。 MPA(通称アライナー)は価格が約1億円。 ステッパーは価格が約2億円以上するそうですが・・・ アライナーは露光中にトラブルなどで止まったら ウエハはやりなおしですが、 ステッパーはそのようになっても サンプルショットごとで露光しているので 別に問題ありません。 構造的にどこがどう違うのですか? おしえてください!
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一般論しか答えられませんが、とりあえず。 MPA(ミラー・プロジェクション・アライナー)方式は、 原則、等倍の反射結像系により、マスク像を1倍で、ウエハ上に 投影していきます。 従来は、ステッパの1世代前の露光技術と考えられていましたが 大画面化が比較的容易であることから、最近では、大判液晶を焼く のに、一般的に多用されています。 MPAでは、ウエハ上をイッキに露光するのではなく、マスクと ウエハを、線状の光源/光学系に対して順次等速走査することによって、 概略線状の範囲を順次露光することになります。 (そんなに大きな範囲をイッキに露光する光学系も光源系も、たとえ 1倍であっても非常に困難ですから・・・) ですから、MPAでは、途中で止めても、あるチップが生きるか 死ぬかは明確でなく、むしろ途中露光で死ぬチップが必ず1行ある と考えるべきでしょう。 また、等速等倍露光を前提としたシステムであるため、 アライメント精度などの関係から、途中から再開することは、難易度が 高いと思います。 さて、ステッパは、ご存知のようにマスク(レチクル)を通常、 1/4~1/10程度に縮小投影し、ステップ&リピートしながら シリコン上に、1つまた1つとチップを焼いていくわけです。ですから、 ある場所でSTOPしても死ぬのは、最悪1チップなわけです。 最近のステッパはアライメント精度も非常に高く、再開もしやすい ことと思います。最高品位のステッパで焼く石に、非常に高いものが 多いこと、12インチなどシリコン単価の高いものが主流になったという ことなどが背景にあると思います。
お礼
ステッパー作業に関しても アライナー作業にくらべて とても容易で、 アライメントずれ(アラズレ)も まったく無い!・・・ 納得~! 大変参考になりました!!! またわからないことがありましたら よろしくお願いします!!!