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シリコン酸化膜、窒化膜、酸窒化膜の違いについて
- シリコン酸化膜、窒化膜、酸窒化膜にはそれぞれ異なる用途があります。
- シリコン酸化膜は主にゲート絶縁膜や保護膜として使用され、高い絶縁性能を持ちます。
- 窒化膜は酸化膜と比較してより高い絶縁性能を持ち、さらに機械的な強度も優れています。
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従来は、ゲート絶縁膜として、シリコン酸化膜が使われていた。 半導体は、微細化・集積化が進んでいて、ゲート絶縁膜も薄くしたい。 しかし、薄くするとリーク電流が増えて、信頼性が低下する。 誘電率が高い材質であれば、厚さを増しても同等のゲート制御性を確保 できるので、微細化・集積化と信頼性を両立できる。 誘電率が高く、シリコン半導体と相性がよい材質として、シリコン窒化膜や シリコン酸窒化膜が注目されている。 上記の程度の説明で宜しいでしょうか？
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再出、 > 標題の通りですが、調べたところゲート絶縁膜や保護膜として、… なので、回答（１）さんが“ゲート絶縁膜”記載なので、小生は“保護膜”記載しております。 戻って、“ゲート絶縁膜”/“ゲート酸化膜”は、そのニーズからの視点で ? 集積技術で数量が増大し、消費電力もそれに比例して増大することを防ぐ目的で 低電圧作動仕様になってきている （動作スピードも問題になって、“光”化の政府主導プロジェクトも存在した） ? ボロンフリー技術は数世代前からの取り組みで、スルー電流の要因排除をして、より 恒久的に安定した作動をさせている ? “ゲート酸化膜”周囲からの恒久的なドーピングを防ぎ、?の目的を達成するバリア 的意味合いを持たせる必要がある 等々があり、 薄く低電圧作動で消費電力低減、しきい値電圧の安定化工法と手段、周囲材料からのドーピング 防止工法と手段を、ニーズから確認することが肝要です。 ニーズは、発明の母ですから、そのようにしたい/なる物を作るので。
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ご回答頂き、ありがとうございました。
取り敢えず、以下のURLが参考になるかと思います。 因みに回答(2)は頓珍漢、出鱈目のまき散らし嫌われ者ですから相手にしない方が良いです。 回答(2)追記でも「ハァ？」と思ったでしょ。
お礼
ご回答頂きましてありがとうございました。 添付資料拝見致しました。 非常に参考になりました。
回答（１）さんの内容の如くです。 そして、当初は“シリコン酸化膜”が作り易かったので使用したです。 > また同様の用途で別の層が存在するようでしたらご教授下さい 同様の用途？で、貴殿の要望に合致しないかもしれませんが、パシベーション膜です。 そうですね、それと積層化集積技術で、CMPする膜もです。
お礼
ご回答頂きましてありがとうございました。 パッシベーション膜は前工程のほぼ最後の方の配線が 完了した後に塗布されるイメージがありましたが正しいでしょうか。 ご回答頂き、ありがとうございました。
お礼
ご回答ありがとうございました。 よく理解できました。 １点追加で教えて頂きたいのですが、 以前リソグラフィ工程の図を見ていた際、 酸化膜の上に窒化膜が積層されていたり、high-k材料が積層されている 図を見たことがあるのですが、ご説明頂いた内容ですと、 酸化膜にそのまま窒化膜、酸窒化膜が取って代わるものと思いました。 酸化膜の上に窒化膜などを積層するのはどういう効果を狙っている ものなのでしょうか。