無電解ニッケルの膜厚不良について

このQ&Aのポイント
  • 無電解ニッケルの膜厚不良について調査しています。
  • 現在、SK、Becu材のプローブに無電解ニッケル、金コバルトめっきをしていますが、膜厚が不良な場合が多発しています。
  • 作業条件やアドバイスについてご教授いただける方、お知恵を拝借できる方がいらっしゃいましたら、ぜひお教えください。
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  • 締切済み

無電解ニッケルの膜厚不良

SK、Becu材のプローブに無電解ニッケル、金コバルトめっきをしています。 無電解ニッケルの狙い値は3μmなのですが同じ条件で作業して1μm、それを切るような場合もあり。 最近多発して困っています。 参考までの作業条件ですが、 ・5LSUSビーカーに4L建浴 ・温度は作業中93℃でほぼ一定 ・空気撹拌(コンプレッサーからライン1本を投入している) このような事例をご存知の方、些細なアドバイスでもかまいません。是非ご教授願います。 よろしくお願いします。

noname#230358
noname#230358

みんなの回答

noname#230359
noname#230359
回答No.2

情報が少ないのでどこに問題があるかわかりませんが、下記をご参考下さい。 前処理について)ご存じだと思いますが、銅素材に直接無電解ニッケルめっきはできません。Pd付与、触媒金属(鉄など)を接触や品物にマイナスSUS槽にプラスにした電気接触をさせて下さい。めっき反応がスタートします。 めっき浴)どのようなめっき浴をご使用ですか?この実験条件で膜厚不良だと液に問題があるかもしれません。実験条件は決して悪くはありません。 実験条件)SUSに多くめっきが析出するようでしたら、?浴温を90℃程度にする、?電気パシベーションする、?ガラスビーカーなどに変える。極端に強い空気攪拌はめっき反応を停止させる可能性があります。加熱部にエアーをあて、品物にはあてないようにすれば良いかもしれません。

noname#230358
質問者

補足

詳しい情報を盛り込めなくてすみません。 既にガルバニックスタートは行っています。それをした上での膜厚不良となっています。 めっき浴はバッチ式のめっき液です。組成は硫酸ニッケルです。 建浴初回、使込んだ液関係なく膜厚不良がおきます。 弊社では膜厚測定はn=5で実施していますが、その内1本か2本が所定の膜厚が乗っていない状況です。 ど素人申し訳ありませんが、ご教授願います。

noname#230359
noname#230359
回答No.1

susの鍍金浴槽では、ニッケル鍍金がついていき、その浴槽に鍍金析出がとられてしまい大事な品物に着きが悪くなるということがありますよ。濃硝酸で不活性化、またはニッケル鍍金を剥いていますか?一度着き始めるとそっちにとられてしまします。また、浴槽に品物が接触しているとステンレスに鍍金が析出することはご存知ですよね? ちょっと、詳しいことが書かれていないので答えようがない

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