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4探針法による半導体の電気的測定の仕方を知っていたら教えていただきたいです。 教科書を見ても抵抗率の測定法については載っているのですがそれと同じような方法でいけるのでしょうか？ 接触抵抗がなくなってより精度の高い測定ができるらしいのですが先生の話を聞いてもいまいちわかりません。 やはり探針の間隔とかは一定でないとまずいのでしょうか？ 探針の間隔は抵抗率を調べるときのみ一定で電気的特性（C－V、I―Ｖ）の測定のときは電圧測定と電流測定が分かれていればいいのですか？ 電気回路については初心者なので詳しく教えていただけるとありがたいです。 よろしくお願いします。

下記の方法で超光速通信が可能ではないでしょうか？ スピン0の粒子からEPRペア（粒子A、粒子B）を発生させ、正反対の方向に飛ばします。 1秒間に1000個程度の割合で、大量にずっと発生させ続けます。 必ず粒子Aのスピン測定を先に行い、その直後に粒子Bのスピンを測定します。 粒子Ａのスピンを単位時間(1秒とします)毎に下記の2パターンで測定します。 (1)スピンを垂直方向に測定する (2)スピンを垂直方向に対して 20度傾けて測定する 粒子Bのスピンは、常に垂直方向に測定します。 さて、最初の単位時間(1秒間)粒子Aのスピンを(1)の方法で測定し続けたとすると、粒子Bは上向きのスピンと下向きのスピンがきっちり 50%づつ(約500個ずつ）検出されるはずです。 次の単位時間粒子Aのスピンを(2)の方法で測定し続けたとすると、粒子Bの上向きスピン、下向きスピンの比率は50%ずつにはならず、どちらかが多くなると思います(例えば上向き 800個、下向き200個など) つまり、単位時間毎に、粒子Aの測定者が(1)(2)どちらの方法で測定したかという情報が、粒子Bの測定者に伝わる事になります。 粒子Aを(1)で測定した事実を0、(2)で測定した事実を1として、2進法を用いれば、8秒間で8ビット＝1文字の情報を、粒子Aの測定者からBの測定者に送る事が出来そうです。 理論的には測定者AとBの距離は任意に長くできますし、測定結果は瞬時に伝わります。上記の例では単位時間を1秒としましたが、粒子Bの上向きスピンと下向きスピンの比率が50:50か否かを統計的に判断できれば単位時間は 0.1秒でも 0.001秒でも構わないはずで、実用的な情報密度での通信も可能と思います。 上記が正しければ、超光速通信が成り立つのではないでしょうか？ 素人考えですので、何処か間違っていると思いますが、自分では何処がおかしいのかわかりません。 識者の方のご指摘をお待ちしております。

例えば旋盤のヘッドストックの両端にあるベア リングハウジング穴の同芯度を調べるにはどの ような方法があるでしょうか。 色々考えたのですが、穴以外に何か基準面が ないと測定出来ない気がします。 例えばヘッドストックが正確に六面加工されて いれば、それなりに測定方法が考えられますが 鋳肌のままの表面のハウジング穴だけを頼りに 測定する方法があるのでしょうか。 両端のハウジング加工はどうしても品物を トンボさせないと加工できないので、いつも どうやって測定するのか気になっていました。 宜しくお願い致します。

小型の制御箱の外気温度を測定するため、箱に開口部を設け、温度センサーICでの測定を考えていますが、内部温度上昇の影響で、正確な外気温度測定ができていません。 何か良い方法はありますでしょうか？

増し締めトルクってなんですか？？ 測定方法も含めて教えていただけると嬉しく思います。

ツールプリセッターがなくてもゲージ面から工具先端までを測定 ツールプリセッターがなくても ゲージ面から工具先端までを工具長補正値として測定する方法 はあるのでしょうか？ どのような方法があるのか教えて頂けませんか？

こんにちはＧＰ－ＩＢを用いた計測に関する質問です。 ＰＣ98とマルチメータと直流電源を GP-IBでつなぎ、 ダイオードとマルチメータを直列に接続し、 マルチメータを電流モードにして電流を直接測定して ダイオードのＩ－Ｖ特性を測定する方法では ダイオードの正確なＩーＶ特性が測定できないのですが、なぜ正確に測定できないのかよくわかりません。 マルチメータ内のダイオード”on”時の内部抵抗が関係しているようなのですが… どなたか教えてください。 お願いします。

大学の授業でMTFの測定について習ったので、一度測定をおこなってみたいのですがどれも専用のソフトなどを使用している為測定が出来なくて困っています。 何かソフトを使わずに出来ればより簡単に測定できる方法があれば教えて下さい。 よろしくお願い致します。

歯車のバックラッシを導くため歯厚を設定しようとしています。 ラックとピニオンについて　ピニオンは、またぎ歯厚で測定する仮定で 計算しておりますが、ラックの歯厚測定はどのような測定方法が良いか、 どのポイントを測定する基準にすれば良いのかアドバイス等、教えて頂けませんでしょうか。

Scion Imageを使って、面積を測定しています。同じ倍率で撮影した顕微鏡写真を測定しているのですが、測定する前に毎回Set Scaleでスケールを定義してから面積を測定せねばならず本当に骨が折れます。どなたかいい方法をご存知の方はおられませんか？

この値はどこから出てきたんでしょうか？ 色々なサイトを見てみると、実測値だといったり測定値ではないといったりで 混乱しています。 また、ウィキペディアでは過去の光速の測定の仕方？が書いてあるのですが、 現在ではどういった測定をしているんでしょうか？ 「マイクロ波を使う方法、レーザーの使用などにより測定の精度が高まった」 と書かれていましたが少し曖昧なのでもう少し詳しい方法が知りたいです。 よろしくお願いします。

ImageJを用いて、血管内皮細胞の管腔形成を解析したいのですが、内皮細胞が形成する突起の長さを簡便・確実に測定する方法がわかりません。 何本もの突起を一つ一つ線形描写ツールでなぞって、その長さを測定していると、同じ突起を二度測定したり、逆に測定し忘れたりしてしまいます。 Ctrlキーを押しても、直線を連続して描写することができないのです。 何か便利な方法があるでしょうか？根性でやるしかないでしょうか？

固体塩基性度の測定法について 私は固体塩基の触媒（CaO、K2Oなど）について勉強しています。塩基性度をCO2を用いたTPDにより測定しようと考えていたのですが、わけあってCO2を利用できなくなってしまいました。 塩基性度を測定するTPDについて、CO2以外を用いる、また安全性のあるガスを用いる方法をご教授下さい。 また、TPD以外でも固体塩基性を測定できる方法（FT-IR以外）がございましたら、ご教授頂けますか？？

漏洩電流について困ってます。 困り１ 　漏洩電流の測定は現在一般的な信頼性保証方法ではないのでしょうか？ 絶縁抵抗測定で網羅しているのでしょうか？ 困り２ 　測定の方法なのですが、 　基本的には人体が触れえる露出金属部とどっか（不定）での流れる電流値の測定で良いのですよね？この場合、アースより引く電位を保持した場所に人がいた場合はどうやって考えたら良いのでしょうか？ ご存知の方が見えたらご教授お願い致します。

スペアナを使って、ステレオ変調されたFM波の変調度（周波数偏移）を測定したいのですが、具体的な測定方法を教えて下さい。

いつもお世話になっております。 工業用クロムめっき浴中の浮遊物を測定したいと思うのですが、測定方法がわからないのでご教授お願い致します。 測定したい項目は浮遊している固体の量です。また、その固体が何かも測定したいです。さらに、めっき槽に常時監視できる監視測定器を設置したいと考えています。 以上、ご教授お願い致します。

多孔質材料（発泡ガラス，軽石等）の比表面積を測定したいのですが，私が知るところBET法，水銀..法でサンプルも1mmサイズのものしか測定できないそうです。1mmサイズに加工すれば孔のサイズも変わり，現実的ではありません。多孔質材料はせいぜい40～60mmサイズを使用しようと考えていますが，そのサイズで表面積を測定する方法は何かありますか？お教えください。

工場の騒音測定を業者さんにお願いして2年に1回の頻度で行っております。報告書もきちんといただいており、測定方法に問題はないと思うのですが、測定頻度に関する記述がどこにもなく2年に1回で問題はないのでしょうか？ 日本工業規格Z8731も見てはいるのですが・・・ ご存知の方がいましたらご回答お願いします。

銅の中に埋め込まれた金属（φ6×5程度）の寸法、もしくはその物体までの距離（10mm程度）を非破壊で精度良く測定する方法ありませんか？ 超音波では精度±0.51.0が限度です。±0.1くらいで計れる方法を探しています。 方法や測定装置等ご紹介下さい、よろしくお願いします。

　水素化物の形成速度の良い測定方法を教えて欲しいです＞＜ 今考えているのは水素チャージの時間とX線回折法等を使って水素化物の形成された厚さを基に算出しようかと思っています。 　 　ただこの方法だと正確な値が出そうに無いので他の測定方法が無いか検討中なので、その他に良い測定方法を教えて欲しいです。 　 　どんな装置があるかわからないと答えづらい質問だとは思いますが、参考にしたいと思っていますのでよろしくお願いいたします。