• ベストアンサー

スパッタリングの成膜条件

マグネトロンスパッタリング装置で鉄(Fe)を飛ばそうとしています。 鉄は磁性を示すので放電が起こるかどうか心配していましたが、うまく起ってくれません。 Ar流量、放電パワーはどのくらいが必要なのでしょうか。 どなたかマグネトロンスパッタリングに長けた方、教えていただけないでしょうか。

質問者が選んだベストアンサー

  • ベストアンサー
  • Junyx
  • ベストアンサー率100% (1/1)
回答No.7

ターゲット厚を下げても磁場が出ていないので、放電が立たないと思われます。 通常、シャッターやシールド類は非磁性のSUSで出来ていますので、装置改造などで、極端に極間距離を変えてない場合は放電電圧がちょっと変わるぐらいで、特に問題は起こしません。 磁性体ターゲットのスパッタで万全を期すには・・・ 1)カソードの磁石をSm-Coか、Nd-Fe-Bに変える(現状はフェライトが入っています)。 2)バッキングプレートにヨークを備えたものを用いる(同心円状に軟磁性鉄コア)・・・手間がかかる 3)ターゲット製造時に冷間圧延で歪みを入れ、透磁率を下げる(目標20以下)。 → 裏技として、ターゲット表面に斜めにスリットを入れ、見かけ上の透磁率を下げる。 1)、2)は結構、費用と手間が掛かるので、ちょっとスパッタする程度なら、3)+ターゲット厚さを薄くが現実的。 ターゲットの厚さを薄くするだけでは、鉄ではあっという間にエロージョン部に鋭い穴が開きます。 これはターゲットの厚みのためだけではなく、一旦エロージョンが生じるとターゲット=鉄のコアの一部が欠けることになり、磁場が集中するためです。 ちなみに1)+2)で純鉄ターゲットをスパッタした場合は、5mmのターゲットに半日で穴が開きました(切り目を入れたように鋭いエロージョンが発生)。 飽和磁化の低いNiでは、厚みを薄くするだけで使えましたが、鉄は透磁率を下げないと無理です。 ところで、UBMを使用とのことですが、この状態ではUBMの効果は全く発揮されません(単に装置がたまたまUBMということであれば問題ありませんが) スパッタはDCですか、RFですか?(おそらくDCだと思いますが)

carbonell
質問者

お礼

回答、どうもありがとうございます。 非常に参考になりました。 今後、検討していきたいと思います。 UBMSを用いているのはそれしか装置がないためでした。ご想像の通り、DCスパッタです。

その他の回答 (6)

  • inara1
  • ベストアンサー率78% (652/834)
回答No.6

電圧が1000Vを示すのなら異常放電は起こってないようですね(放電そのものが起こっていないようです)。シャッターを開いた状態ではどうですか?

  • inara1
  • ベストアンサー率78% (652/834)
回答No.5

スパッタ装置に「トリガ(Trigger)」という機能はついてませんか。トリガとは、パルス電圧を印加して主放電を誘発するものです。DCパワーが上がってこないとき、トリガを与えると放電が始まることがあります。そのような機能がついていないのなら、tanceさんの回答にあるように、最初だけガス圧を上げてみてはいかがでしょうか(2倍、5倍、10倍など)。

carbonell
質問者

お礼

inara1様 tance様へ回答させてもらったのですが、ガス圧を10倍にしても放電が起ちませんでした。 既にアドバイスいただいたシャッターの件。非磁性のシャッターにすること、またシャッターとターゲット間を広げてトライしてみようと思います。 ターゲット径はφ152です。放電電力は任意の値(0.1~3まで変化させました)で設定しているのですが、何れの設定値においても装置の画面上では電圧が1000V、電流が0Aを示します。過大電流が生じている様子は見受けられないのですが…。 また明日、トライした結果を報告させてもらいます。

carbonell
質問者

補足

inara1様 先程、Junyx様に回答させてもらったのですが、現状の装置では何らかの改良をしないと難しいような気がしました。今後の課題にしたいと思います。 色々とアドバイス、ありがとうございました。

  • tance
  • ベストアンサー率57% (402/704)
回答No.4

インピーダンスマッチングは大丈夫でしょうか。放電開始前と後ではマッチング 条件が大きく違います。 放電開始時だけ一時的にガス流量を増やすと放電を開始し、その後にガスを 通常に戻すと、放電は維持している状態があり得ます。

carbonell
質問者

お礼

確かに通常の金属ターゲットでは放電開始当初と終了間際では放電電圧に変化が見られていました。マッチング条件が変化している証拠なのですよね。 PCVD等で放電が消えてしまったときはArをドーンと投入すると放電が復活することを経験していました。仰る通り、Arを通常の10倍まで投入して確認はしたのですが、放電は起たなかったのです…。

  • inara1
  • ベストアンサー率78% (652/834)
回答No.3

うまくいきませんでしたか。新しいターゲットはそんなに短期間で入手できるのですか(うらやましい)。 シャッターを開けた状態でも放電しませんか?シャッターを開けた状態でも放電しないのなら、シャッターが原因でなく、ターゲットがまだ厚いのが原因ではないでしょうか。使用している磁石のが弱いとターゲットをかなり薄くする必要があると思います。 磁性体ターゲットではないですが、シャッターを閉じると放電が不安定になることはありました。シャッターが鉄だと磁力線の空間分布が変わる(シャッター側に磁力線が引き込まれることになる)ので、もし、シャッターを閉じたときだけ放電が不安定になるのなら、シャッターとターゲット間の距離を大きくするか、非磁性体のシャッターに取り替えるのがいいと思います。 シャッターとターゲット間の距離が20mmということはターゲット径は100mm程度でしょうか。放電が起こらないというのは、DC電圧を印加した瞬間に過大電流が流れ、保護回路が働いて、投入電力が上がらないという症状でしょうか。

  • inara1
  • ベストアンサー率78% (652/834)
回答No.2

>使用しているターゲットの厚みもそのものズバリで驚きました 6mmというのは私が毎日仕事で使っている非磁性体のターゲット厚です。磁性体が3mmというのも実際にそういうターゲットを使っているからです。ターゲットの直径が小さくても大きくてもその厚さです。この質問はこのままにしておいて、実際に試してみたら結果を知らせてください。

carbonell
質問者

お礼

inara1様 早速ターゲットを薄くしたものを用意して再トライしてみました。 結果はNGでした。放電が起ちませんでした。 私の使用している装置はUBMSです。放電を起てるためにトリガーとなりうるものがあればいいのですが…。1つ気になっていることが、『シャッター』です。鉄製で、ターゲットから20mmくらい離れたところに位置しています。ターゲット表面を軽くプリスパッタ(20秒ほど。設定次第では0秒にすることも可能です)してからシャッターが開く構成です。磁場を考慮すると、このシャッターが何らかの影響を与える可能性があるでしょうか。

  • inara1
  • ベストアンサー率78% (652/834)
回答No.1

マグネトロンスパッタではターゲット裏面の磁石から出る磁力線を利用して、ターゲット前面の電子密度を高めているので、FeやNiなどの磁性体をターゲットとすると、磁力線がターゲット内部に閉じ込められてしまうために放電が起こりにくくなります。それを回避するためにはターゲットを薄くします(ターゲット寿命が短くなりますが)。通常のターゲット厚が 6mm 程度なら、2mm~3mm とすれば大丈夫なはずです。

carbonell
質問者

お礼

回答、どうもありがとうございます。 通常使用しているターゲットの厚みもそのものズバリで驚きました。 早速、薄めのターゲットを作製しようかと思います。 非常に参考になりました。ありがとうございました。

関連するQ&A

  • スパッタリングの放電

    マグネトロンスパッタリング装置を利用して反磁性のターゲットを飛ばそうとしています。 現在ターゲットを抑える(?)シールドを加工して口径を小さくすることでスパッタリングレートを小さくしようとしています。因みにシールドはSUSです。 口径を小さくする加工をする前は放電していたのですが、小さくすることによって放電が起こらなくなりました。 電圧をかけると反射は大きいもののマッチングが取れるためシールドとターゲットが接触しているということはないと思っています。 口径を戻すと放電するため何が理由かさっぱり分かりません。 もし原因、もしくは改善点が分かる方がいらっしゃれば教えていただけないでしょうか?

  • プラズマスパッタリング

    大学の卒研で、プラズマスパッタリング装置でガラス基板に薄膜を合成しているんですが、今までは装置の真空容器内には酸素ガスを入れて行っていました。 それで、今回、先生から酸素ガスとアルゴンガスを入れてみろと言われました。 これにはどういった意味があるのでしょうか? 先輩に聞くと、酸素よりアルゴンの方が原子番号(原子)が大きくてターゲット(ガラス基板につける材料)をよく削れるからと言わたのですが、どなたか、わかる方いたら教えて下さい。

  • 分圧の計算について

    反応性スパッタリングという物に携わっている者なのですが ArガスとN2ガスの分圧が出せなくて困っています 既知なものは 各ガス流量(ml/min) 真空槽内の全圧(Pa) 単純にガス流量の比で全圧を割るのでしょうか? 気体の状態方程式で算出できるかと思って色々がんばりましたが これだという答えはでませんでした 頭悪いもので(笑) どなたかよろしくお願いします

  • DCマグネトロンスパッタ

    上記の装置を利用してTiO2の高配向性薄膜を作成しようとしているところの大学4回生です。 当然そんな簡単にはいくはずもなく苦労しています。 そこで似たような装置を使ったことがある、または詳しい方に質問があるのですが、 Arのみで前スパッタするときには青白いプラズマが立って、粒子が進んでいく(多分) 道が見えるのですが、いざ酸素を入れてスパッタさせようとすると 放電電圧が上がり、プラズマの色もピンク色になってしまいます。しかも 道は見えなくなり拡散したような感じに見えます。これはよいのでしょうか? 酸素流量やDC電力を調整したりしているのですが、なかなか進みません。 しかも今教授は出張で質問できない。。。 誰か何かしらわかる方がおられましたらよろしくお願いいたします。

  • 磁性とキュリー温度

    宿題で磁石や鉄について調べています。 調べていたら、「常温で強磁性をしめすものはFe,Co,Ni,ガドミウムである」と出てきましたが、つまり、他の不対電子がある原子はキュリー温度が低いので常温では常磁性だが、温度を下げれば強磁性をしめす、ということでしょうか...? 細かく学習したワケではなく、1から調べているので文章が変かも知れません...

  • 脱磁装置について助けてください。現場の人間が苦しんでいます。

    みなさんおはようございます。noboru18です。脱磁装置についてお聞きします。磁性を示すFeに対し何故、磁性を消す事ができるのか?この点をお教えください。今回問題となっているのは1000mm×1000mm×12mmのFe板のエッジ部分のみ(S極 40mT程度)脱磁したい。ライン構造上、脱磁装置のヘッドはφ15mm×100mm程度の物しか設置できないという制約があります。この使用をクリアできる脱磁ヘッド(海外の物でもOK)をご存じないでしょうか?ご存知の方、是非ともお教えください。現場の人間が苦しんでいます。

  • 対象ワークの材料

    機械設計を行っているものです。 ちょっとうる覚えなのですが、 ワイヤーカットや放電加工の対象ワークは 導電材でなければいけなかったと思います。 (放電現象により加工を行うため) そのほかに、磁性材でなければならないという条件はあったでしょうか? 確か平面研削の場合は、磁気固定を行うため、 磁性材のほうが都合がいいということがあったと思います。 放電系では磁性は関係ないと思うのですが、いかがでしょうか? よろしくアドバイスお願いします。

  • 電子配置について質問です

    次の電子配置を持つ原子がつくる化学的に安定な単原子イオンは陽イオンか、それとも陰イオンか、イオン価とともにしめせ。 [Ar](3d)^5(4S)^2 上記が問題です。^5や^2は( )の右上に小さく付く数字です。 自分は答えが、Arの7個隣にあるMnの陽イオンだと思いましたが、 教科書の答えはFe^2+とFe^3+でした。なぜ鉄のイオンになるのか、 考え方のどこが間違っているのか、が分からないので 教えてください。よろしくお願いします。

  • 磁気選別機で磁性体と反磁性で選別できない理由は?

    乾式ドラム磁気選別機(12000ガウス)で紛鉱を選別テストし磁性体、反磁性体と分類できると思ってテストを行いました。精鉱と尾鉱2つをそれぞれに定性分析(X線)にて行いましたが、結果は磁性体、反磁性体関係なく分類されていました。 これはどのような理由でそのような結果が出たのかどなたご存知でしょうか? テストの目的は、紛鉱の量を減らすために磁鉄を取り除くために行ったもので、結果は下記の通りになりました。尚、Au.,Ag、Ptが精鉱(磁性体Fe)に綺麗に選別され、FeやCuはどちらにも分類されていますのでこれはこれでいいのかと思っていますが。。。目的はAu.Pt、Agなどを選鉱するためですので。。 定性分析(X線)結果   元素        精鉱        尾鉱 Wt% 11 Na        0.22900    0.16300 12 Mg    0.55200    0.37400 13 Al        13.88000    13.73000 14 Si        55.22000    64.62000 15 P205    0.11100    0.08630 16 S        4.10000    4.88000 18 Ar        0.00000    0.00410 19 K20    3.47000    4.82000 20 Ca0    8.52000    4.12000 21 Sc        0.00210    0.00240 22 Ti2    0.60200    0.64700 23 V205    0.02770    0.03490 Cr 203    0.00580    0.00000 25 Mn    0.49500    0.11500 26 Fe        12.15000    6.06000 27 Co304    0.00740    0.00540 28 Ni 0    0.00310    0.00030 29 Cu    0.07670    0.05220 30 Zn        0.08430    0.02500 31 Ga203    0.00320    0.00400 32 Ge02    0.00230    0.00061 33 AS203    0.15500    0.09510 34 Se        0.00040    0.00000 35 Br        0.00028    0.00005 37 Rb        0.01180    0.00920 38 Sr    0.01720    0.00330 39 Y        0.00450    0.04190 40 Zr        0.17600    0.00950 41 Nb        0.00680    0.00000 42 Mo    0.00470    0.00000 44 Rh        0.00400    0.00000 46 Pd        0.00000    0.00480 47 Ag    0.01010    0.00000 49 In        0.00000    0.00300 50 Sn    0.00780    0.00000 51 Sb        0.00000    0.00430 53 I        0.00510    0.00000 56 Ba        0.06350    0.07410 Sumla Lu    0.05300    0.03700 72 Hf02    0.00620    0.00330 73 Ta        0.00000    0.00780 74 W        0.00500    0.00280 75 Re    0.00640    0.00970 76 Os    0.00250    0.00080 77 Ir        0.00400    0.00000 78 Pt        0.00430    0.00000 79 Au    0.00480    0.00000 82 Pb    0.01860    0.00790 83 Bi        0.00290    0.00000 90 Th    0.00170    0.00970 92 U        0.00000    0.00010 94 Pu        0.00170    0.00000 95 Am    0.00150    0.00000 計        100.12138    100.06856

  • 磁気を通さない物質

    磁気を通さない又は、通し難い物質を探しています。 パーマロイ、鉄(Fe)、など磁性体は磁気がバイパスするので反対側には磁気を通をしませんが磁石がくっ付いてしまいなす。 磁石(100ミリステラ)がくっ付かず磁気を通さない物質は有りますか? 貴金属は磁気を通しにくいと聞きましたが、比重が大きいほど、通し難いのでしょうか よろしくお願いします。