もう、かれこれ、15年近く、LSIに携わっています。ihontyanさんの「苦戦」という意味は、よくわかりませんが、これからのLSIプロセスは、ある意味で非常に面白い局面に来ています。
というのは、従来のLSIプロセスで行ってきた手法、材料の限界が見え、新しい方法、材料の開発が急務となっているからです。そういった意味では、今までのプロセス開発が、改良・改善であるとすれば、これからは、新たなブレークスルーを必要とする転換点に来ています。
しかも、最先端の開発には、多額の費用がかかるため、国および各企業が共同で研究開発を進めるという時代です。ライバルは、国内企業というより、全世界です。
やりがいは、もう、単純に、出来たときの喜び、それに尽きます。面白さは、色々な制約条件の中で最適なプロセスを見出すときの悪戦苦闘でしょうか。
なんだか、半導体メーカーの人事採用者みたいな回答で申し訳ないですが。
投稿日時 - 2001-04-22 12:52:49
お礼
現在の手法に限界が見えてきたということは、これから自分も、今までとは違った新たな技術の開発に携わる事ができるということですね。ますます興味が湧いてきました。LSIの現場に携わる方の生の声（情報）が聞けたということで、非常に参考になりました。どうもありがとうございました。
投稿日時 - 2001-04-23 18:48:00
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ベストアンサー以外の回答（2件中 1～2件目)
LSIプロセスのプロからの回答が入っているので・・・、その事には触れないでおきましょう(^-^;
って、それでは質問の主旨から外れるので、液晶プロセス屋としてちょっと書きます。
半導体プロセス、デバイスではLSIは花形ですが、液晶やメモリにも当然ですが、プロセス屋は存在します。
LSIプロセスもとても難しい問題が多いと思いますが、他のプロセスでもいろいろ問題はあります。
LSIでのlow-k、Cu配線プロセスの問題、メモリのhigh-k素材の問題があるように、液晶でも低温多結晶シリコンプロセス、有機ELなどの問題があります。
液晶プロセスに特化すれば、透明電極のエッチングの歩留まり向上などもあります。
プロセスに興味を持たれているようなので、いろんなプロセスの現状を調べてみるのはどうでしょうか？
日経マイクロデバイスのホームページが参考になるので、とりあえず参考ＵＲＬに入れておきますね。
タダでいろんな情報が見れるので、便利です。
・・・にしても、LSIプロセスは格好いいよなぁ～っ
ちょっと羨ましい（笑）
参考URL：http://ne.nikkeibp.co.jp/NMD/
投稿日時 - 2001-05-05 01:45:55
お礼
教えていただいた日経マイクロデバイスをさっそく見てみました。様々な情報が載っていて大変参考になりました。どうも有り難うございました。
投稿日時 - 2001-05-05 18:12:17
もともと半導体業界はかなり苦戦しているので、今後持ちなおしが期待されています。特にLSI関係の仕事をしていると、夜11時頃まで仕事するってのが普通らしいです。ぼちぼち仕事がしたいなら他の業界を志願することをお勧めします。
PS.ワタシハ学生デスガ、先輩等カラコノヨウニキカサレマシタ。サンコウまで。
グラスマンってもしかして！！(^o^)
投稿日時 - 2001-04-18 18:01:50
お礼
もしかして？ な、なんのこと （'ε'；）？
夜11時頃までってのはかなり辛いですね。でもやりたい事をやる為には仕方がないのかも。ご解答有り難うございました。
投稿日時 - 2001-04-18 20:39:08
