- ベストアンサー
導電性基板についた薄膜をはがす方法は?
- みんなの回答 (2)
- 専門家の回答
質問者が選んだベストアンサー
薄膜は、基板の上に蒸着やスパッタなどの手法で製作したものですか? 基板との密着度や剥離した後の膜の性能評価法にもよりますが、昔、X線回折測定を行うのに、セロテープでぺリッ!とセロテープに膜をくっ付けて取ってる人がいました。その人いわく、テープは何でもよくはなく、ニチバンのものが一番よかったと言ってました。私はこの方法で、ちょっと厚めのポリ薄膜を基板から剥がしてます。 エポキシの場合も同様に、膜の上に枠を置いてエポキシを流すか塗るかして、硬化したら、力まかせにはがすのではないでしょう。
その他の回答 (1)
- apple-man
- ベストアンサー率31% (923/2913)
>どこかの文献にはエポキシを使って剥がすようなことが書いてあったのですが、 それは多分、薄膜の密着強度を測定する方法でしょう。
関連するQ&A
- 剥がれにくい金薄膜を作成する方法
絶縁体の上に導電性の金属膜のパターンを型紙などを用いて作成しようとしています. スパッタでガラス上に金を成膜したのですが,簡単に剥がれてしまいます.ガラス上に剥がれにくい金薄膜を作成するテクニックがあれば教えてください. または,基板は絶縁体であれば良いので,ガラス以外で適して基板があれば教えてください. よろしくお願いします.
- ベストアンサー
- 物理学
- 導電膜に関してです。
スパッタリング法で導電薄膜の作製を行いました。 アニール後の薄膜の電気伝導率が、膜厚に反比例して低下しました。 基板と膜との熱膨張係数の違いにより、亀裂が生じたのではと考えSEM測定を行いましたが、亀裂は見られませんでした。 何が原因で電気伝導率の低下が起こっているのでしょうか。 どなたかご存知の方、よろしくお願いします。
- 締切済み
- 化学
- ガラス基板上のコーティング膜厚分布を測る方法を教…
ガラス基板上のコーティング膜厚分布を測る方法を教えて下さい。 ガラス基板(サイズ450×350×t5mm)の片面のみに、透明のエポキシ樹脂でコーティングをしています。膜厚は大体100~300μ程度です。 基板サイズが大きい為、一般的なマイクロメータ(挟み込んで測るタイプ)では、ガラスの傾き等の影響があり上手く測定出来ません。 このエポキシ樹脂の基板全体の膜厚分布を測定したいのですが、良い方法があるでしょうか?教えて下さい。 また、以前どこかで、測定器本体がハンディタイプで 膜にセンサー部分を押し付けると、膜厚が判る測定器を見た事があるのですが・・・。 その測定器で測定出来ないかと考えてはいるのですが、詳細が判りません。 この測定器に関して知っている方が居ましたら、 詳細(メーカー・仕様等)も教えて下さい。
- ベストアンサー
- 開発
- 薄膜形成の対象は半導体ウエハか半導体基板か
「蒸着などの方法で薄膜を形成する」という文章を書く場合において、その薄膜を形成する対象は「半導体ウエハ」と「半導体基板」との両方があるのでしょうか? それとも、「半導体ウエハ」と「半導体基板」とのいずれか一方ですか? そもそも「半導体ウエハ」と「半導体基板」との違いは何でしょうか?
- ベストアンサー
- 物理学
- XRD薄膜法での結晶性評価の仕方について教えてください
ポリマーの薄膜(500nm程度)の結晶性を、XRD装置を使って薄膜法(入射角0.5°前後に固定、2θスキャン)で評価しようとしています。取り合えず、作製方法の違いによって薄膜(基板はガラス)の結晶性がどう変わるかを定性的に比較したいのですが、得られたプロファイルの評価の仕方がもうひとつよく分かりません。単に、主要なピークの半値幅を比較すればいいのでしょうか?また、この場合、θ-2θ法で同様な比較をするのとどう違うのでしょうか?ご存知の方よろしくお願いします。
- ベストアンサー
- 物理学
- プリント基板について
投稿する分野が異なるかもしれませんが、教えてください。 LEDを使って表示板のようなものを作ろうと思っているのですが、LEDの寿命は長いものの、熱の影響で短くなると伺っています。 そこで、基板に配列するときに、できるだけ放熱をよくしたいと考えているのですが、基板にどのようなものを使用したらよいでしょうか。 放熱板やファンなどによる放熱方法もありますが、スペース及び消費電力の関係で、基板からの改良を行いたいと考えております。 ガラスエポキシや金属を使用したものがあるようですが、どなたか詳しい方教えてください。 また多種類の基板を扱っているメーカーなどをご存じでしたら教えてください。
- 締切済み
- その他(音響・映像機器)
- SOG薄膜について
現在、研究でSOGをシリコン基板の上にスピンコートして薄膜とし、イオンビームを照射する卒業研究を行っています。 参考にしているのが東京理科大学谷口淳先生 (http://www.secap.org/smalltech/data/TOKYO_UNIV%20of%20Science-ASIA2005.pdf)の条件で行っています。 しかしながら全く同じようにしているにも関わらず イオンを照射してもパターンが全く残りません。 というか、薄膜を作製しただけのものを現像液につけるとすべて除去され、照射の意味が無いことが判明しました。 そこで、SOG薄膜は熱処理するとケイ酸ガラスになってしまいイオンを照射しても変わらないと知り、熱処理温度を色々と下げてみましたが結果は変わりませんでした。 只今行き詰まり中です。 (1)果たして、熱処理温度の問題なのか? (2)谷口先生にはSOG溶液の種類がありませんでしたので こちらで東京応化のSi-05Sにしましたがこれが原因? (3)中々参考文献や資料がありません。 知ってる資料があるならお教えください。 (4)その他なにかありましたら どうぞ宜しくお願いいたします
- ベストアンサー
- 物理学
- ミクロンオーダ径の導線の導電性を測る方法
内径が数十~数百ミクロンのオーダーの径の被覆導線の、径内部の導電性、絶縁膜との絶縁性、この二つを測る方法を教えてください。 材質はニッケル、金、タングステン、ニクロム線などです。 もし常套手段が存在し、具体的な方法が解説されたホームページや文献などあれば、教えていただけると助かります。 よろしくお願いします。
- ベストアンサー
- 物理学
- フォトルミネッセンス測定で
ガラス基板上に製膜したシリコン薄膜のフォトルミネッセンスを 測定したんですが、膜が薄いせいか基板が光ってしまいます。 何かよい方法はないでしょうか?
- ベストアンサー
- 物理学
補足
いや そうではなくて、薄膜をはがしてその性能を測定するためにエポキシを使うみたいです。基板との密着性よりもエポキシとの密着性のほうがいいから剥がれるっぽいのですが。前述したように、そのやりかたがわからないんです