真性キャリア密度の計算方法とは?

このQ&Aのポイント
  • 真性キャリア密度の計算方法とは半導体工学のテキストに載っている計算式を使用して算出するものです。
  • 計算式にはパラメータとしてNc、Nv、q、Eg、k、Tがあります。
  • 計算過程は正しいと思われますが、テキストに書かれている値とは異なる結果になる可能性があります。
回答を見る
  • ベストアンサー

真性キャリア密度niの計算に関して

半導体工学のテキストに載っている真性キャリア密度の計算ですが 下式が有名ですが、この式と下記のパラメータを使って計算をすると、テキストに書いてある値(1.5×10^10 /cm^3または、1.45×10^10 /cm^3)と違っています。 式 ni=√(Nc*Nv)*exp(-Eg*q/2kT) ni=√(2.8×10^19×1.02×10^19)×exp(-1.12×1.6×10^-19/2×1.38×10^-23×300) パラメータ Nc=2.8×10^19 Nv=1.02×10^19 q=1.6×10^-19 Eg=1.12 k=1.38×10^-23 T=300 計算過程は間違いないと思いますが、1.5×10^10 /cm^3または、1.45×10^10 /cm^3の値になりますでしょうか?

質問者が選んだベストアンサー

  • ベストアンサー
  • W_edged
  • ベストアンサー率42% (48/112)
回答No.1

昨日から、誰か回答してくれないかなぁと待っていましたが、なかなか現れないので、私が書くことにしました。 しかし、ずいぶん昔のことなので、自信がありませんので、違っているかもしれません。 たぶん次のところではないかと思うんですが。 >式 ni=√(Nc*Nv)*exp(-Eg*q/2kT) 上式は、PN積のni^2が一定となると言うことから、平方根をとっているのではないかと推測します。 この式のNcとNvがありますが、これは伝導帯中の電子の密度と価電子帯中のホール密度の定数部分ですよね。 ですが、 >テキストに書いてある値(1.5×10^10 /cm^3または、1.45×10^10 /cm^3) この値は、伝道帯中の自由電子密度だけの値ではないでしょうか? そう考えて、計算してみると、質問にあるパラメーターを用いて計算しても、1.5×10^10 /cm^3程度の値になります。 計算式は、 ni=Nc×exp(-Eg*q/2*kT) です。 蛇足ですが、常温(T=300[K])のときのkTの値は、[eV]で表すと、約0.026[eV]となりますので、大雑把に計算するときはこの方が便利です。 ni=Nc×exp(-Eg/2*0.026)

tsugurin
質問者

補足

お返事遅れました。 ご回答ありがとうございます。 再度、検討してみます。 どうしても、多数キャリア密度と少数キャリアの積が一定という法則がどうしても、頭から抜けきれなくて・・・・・ 検討して、また、ご連絡致します。

関連するQ&A

  • 真性キャリヤ密度の計算

    ダイオードの勉強をしています。 真性キャリヤ密度の計算として、教科書に以下の式が出ていました。 ni=pi=√(NcNv)・exp(-EG/(2kT)) また、T=300Kのときに、ni=pi=1.5E16m-3になる、とも書かれていましたが、 自分で計算しようとすると、値がゼロになってしまいます。 どうしてでしょうか。 代入したパラメータ(物質定数はSiを前提) Nc=2.8E25 [m-3] Nv=1.04E25 [m-3] EG=1.12 [eV] k=1.38E-23 [J/K] T=300 [K] 特におかしいと思うのが、expの項ですが、ボルツマン定数を代入する時点で とてつもなく小さな値(=ゼロ)になってしまいます。 これは、何か根本的な考え方が間違っているのでしょうか。 どうしても分かりません。。

  • 真性キャリア濃度について

    真性キャリア濃度について n:電子濃度 p:正孔濃度 kB:ボルツマン定数 T:絶対温度 h:プランク定数 me*:電子の有効質量 mh*:正孔の有効質量 Nc:伝導帯の有効状態密度 Nv:価電子帯の有効状態密度 Ec:伝導帯の底のエネルギー? Ev;価電子帯の一番上のエネルギー? Ef:フェルミエネルギー ni:真性キャリア濃度(np) Eg:バンドギャップ n=Nc*exp[-(Ec-Ef)/(kBT)] Nc=2((2πme*kBT)/h^2)^(3/2) p=Nv*exp[(Ev-Ef)/kBT] Nv=2((2πmh*kBT)/h^2)^(3/2) np=NcNv*exp[(Ev-Ec)/kBT] =NcNv*exp(-Eg/(kBT)]=ni^2=const ni=√(NcNv)*exp[-Eg/(2kBT)] niの式によって、電子の数が多い時と少ない時と正孔の数が多い時と少ない時とを計算できるそうですが、NcやNvやexp[-Eg/(2kBT)]のどこに電子の数や正孔の数が分る要因があるんでしょうか? niは熱平衡状態の時にしか成り立たないから、温度は一定ですし、バンドギャップも一定でしょう。 そしたら、どうやって電子の数が多いとか少ないとかは判断できるんですか?

  • 畳み込み積分の計算

    レーダのチャープ信号をexp(jπkt^2)、 参照波をチャープ信号の複素共役exp(-jπkt^2)とし、 パルス圧縮時の畳み込み積分処理の計算を ∫exp(jπkτ^2)*exp(-jπk(τ-t)^2) dτ(積分範囲は-T/2~T/2) とすると計算結果が T・exp(-jπkt^2)・sinc(πkTt)になると文献にありました。 文献によってはこの結果のexp(-jπkt^2)が無いものが多く、 結果はT・sinc(πkTt)とあります。 この式exp(-jπkt^2)はパルス圧縮結果に参照波成分が含まれているという 意味なのでしょうか? その場合、T・sinc(πkTt)のsinc関数とは波形が異なると思いますが、 どんな波形イメージになるのでしょうか? 実際の処理では除去される信号なのでしょうか? チャープのセンター周波数で位相検波処理する等で除去されたり するんでしょうか?

  • 下式(a)におけるXの値を求めたいのですが

    下式(a)におけるXの値を求めたいのですが どの様に計算すれば良いでしょうか? 自分で計算してみて“978348”の解を得たのですが、 自信が持てません。 3=(45-(exp(3.813-36000/x)/45*100...(a) 以上です。宜しくお願い致します。

  • 数学の問題です。

    数学の問題です。 下式(a)におけるXの値を求めたいのですが どの様に計算すれば良いでしょうか? 自分で計算してみて“978348”の解を得たのですが、 自信が持てません。 3=(45-(exp(3.813-36000/x)/45*100...(a) 以上です。宜しくお願い致します。

  • 積分計算について

    こんにちは、ここでは始めて質問させていただきます。 大学の講義で固体比熱の平均エネルギー<ε>の積分計算をやっているのですが、計算方法がわからず苦戦しております。 ∫∫∫m(u^2+v^2+w^2)exp{-m(u^2+v^2+w^2)/2kT}/2 dudvdw 参考書に載っている計算方法は途中式をだいぶ省略しており、私にはさっぱり理解できません。 どうかよろしくお願いします。

  • サーミスタの電気抵抗測定実験の誤差について

    抵抗の誤差の計算方法がわかりません。 ホイートストン・ブリッジを用いて、半導体の抵抗の温度依存についての実験をしました。 この際に、原理として R=R0*e^(Eg/2kT) ・・・(1) は与えられています。(R0:273.15℃での抵抗[Ω]、 k:ボルツマン定数=1.38*10^(-23)[J/K]、 Eg:エネルギーギャップ=8.8605*10^(-20)[J]、T:水温[K]) 温度の誤差は約1℃として求める、とあるので、 dT=1[K] これと(dR/dT)の値を dR=(dR/dT)*dT に代入すれば、抵抗の測定誤差dRを求められると思うのですが、 (dR/dT)の値がうまく計算できていないように感じます。 上式のRを微分すると、 (dR/dT)=R0*(-1)*(Eg/2k)*e^(Eg/2kT) となると思うのですが、最小二乗法で求めたRo=28675[Ω],(Eg/2k)=3208.8[Ω/K] という値を代入すると、 (dR/dT)=-1.16*10^13[Ω] となり、 dR=(dR/dT)*dT   =-1.16*10^13*1 =-1.16*10^13[Ω] と、恐ろしく大きくなってしまいます。 ところが過去レポを見たところ、(1)式が y=23485*e^(-0.03/T) (dR/dT)=23485*(-0.03)e^(-0.03*23) =-353.385[Ω] となっています。 これを見る限り(Eg/2k)の値が違うようなのですが、 (Eg/2k)は 自分の値:Eg=8.8605*10^(-20)[J] 過去レポ:Eg=9.12921*10^(-20)[J] でほぼ差がないことや、テキストによるとEg=0.5~0.6[eV]であることから[J]に換算しても Egの値は間違っていないと思います。また、kはボルツマン定数であるので、 なぜここまで値が異なるのか、途方にくれています。 なぜeの指数で23をかけているのかもよくわかりません。 非常に分かりづらい説明で心苦しいのですが、回答お願いします。

  • ダイオードのV-I特性について教えてください

    ダイオードのV-I特性について質問です。 q/ktの値を求める問題です。 I=Is*exp(qV/kT) の式の両辺の対数 ln I=ln Is+qV/kT を求めて縦軸(ln I)、横軸(V)のグラフを描き、勾配q/kTを問題です。 ln Iに実験値の電流を入れて求めるとI<1の範囲は0以下になってしまいます。ln Iの求め方を教えてください。また、Isの値もよくわかりません。 (Is:定数 q:電子の電荷 k:ボルツマン定数 T:絶対温度)

  • 計算を教えてください!!

    計算を教えてください!! 質問(1)dN=Cbexp{(-βmV^2/2)}V^2dV とします。このdNをすべてのV[0→∞]について積分したものがNになるようにCの値を決めなければなりません。計算すると画像の下線部にあるように dN=4πN(mβ/2π)^(3/2)exp{(-βmV^2/2)}V^2dV になるそうです。 しかし、できませんでした。途中式を含めて教えてくれませんか。 質問(2) E=4πN(mβ/2π)^(3/2)∫[0→∞](1/2)mV^2exp{(-βmV^2/2)V^2dV =(3/2β)N となるのはどうしてですか?途中計算を教えてください。

  • n型半導体の伝導帯の電子密度nを求めるには

    こんにちは、 「高校数学でわかる半導体の原理」(ブルーバックス)を読んで、n型半導体の伝導帯の電子密度nを求めようとしております。式は下記です。 T=300; k=1.3806*10^(-23); h=6.626*10^(-34); Nc=2*(2*Pi*me*k*T/h^2)^(2/3); n=Nc*Exp[-(Ec-Ef)/(k*T)]; 質問 1. Si,GaAs,GaP等のn型半導体のme(伝導帯の電子の有効質量)、Ec(伝導帯の底のエネルギー)、Ef(伝導帯の擬フェルミエネルギー)は、多分、実験値を採用するものと思われるのですが、どこかに値は記載されていないでしょうか? 2. 上記の式は、n型半導体の伝導帯の電子密度nを求める式ですが、n型半導体のホール密度を計算すると、実際の値よりもかなり小さくなってしまう旨のことが書かれています。ホール密度を計算する式を教えて下さい。