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HF濃度

HF(0.97wt%)+H2O2(2.00wt%)+H2Oの溶液中に連続して酸化膜付Si_Waferを投入するとHF濃度が0.92wt%まで低下します、なぜこのような現象が起こるのでしょうか？

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みんなの回答

noname#160321
noname#160321
回答No.1

細かいことは分りませんが、ＳiＯＦ2ができるので、フッ素濃度は下がるでしょう。

kosmic_T4
質問者

お礼

回答有難う御座います、SiOF2が生成される化学式はどうなるのでしょうか？

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