- ベストアンサー
PMMAのMIBKを使ったエッチング
- みんなの回答 （1）
- 専門家の回答
質問者が選んだベストアンサー
PMMA(PolyMethylMetaAcrylate）とMIBK+IPAの相互作用は、反応ではなく、MIBK+IPAがPMMAを溶かすだけです。 PMMAは有機溶媒に弱く、色んな物に溶解します。
関連するQ&A
- リソグラフィ用のレジストはなぜ波長毎に種類があるのですか？
20歳代の会社員です． 仕事に関して，リソグラフィについて興味を持ったので調べているのですが，レジストについて分からない部分がありますので質問させて下さい． リソグラフィ用に用いるレジストにはフォト用とEB用とがあり，そのフォト用にも幾つかあり(g,i,D-UV,V-UVなど)あることは分かりました．また，リソグラフィの基本的な仕組みとして，光(または電子線)を当てることによってレジストに化学反応(架橋反応や転移など)を起こさせて現像液への溶不溶を変えるということも分かりました．そこで疑問に持ったのは，なぜ波長毎にレジストが存在するのか，ということです． 資料を見ても，レジスト感度の波長依存性を示すデータなどは見当たりません．また，化学反応を生じさせるためならある一定以上のエネルギーを持った(つまりある一定以下の波長の)光を当てればいいような気がします．つまり，g線用のレジストはg線以下の波長のリソグラフィにも用いることができそうに見えるのですが． 相当初心者的な質問だろうとは思いますが，教えてください．よろしくお願いします．
- 締切済み
- 化学
- エッチングの腐食液、塩化第二鉄の性質について
エッチング、銅版画制作(腐食)に腐食液として、塩化第二鉄を使います。 冬、腐食液の温度が低いと腐食しづらいので、暖め、そして銅板をその中に浸けます。 今までそのようにして、だいたい塩化第二鉄液体の温度25℃、30分ほどで約0.2mmから0.3mmのきれいな線が腐食できました。それが、今日突然腐食のスピードが遅くなり、今まで30分ほどで出来ていたものが、1時間近くかかりました。化学のことはわかりません。塩化第二鉄を暖めて使い続けると、そのようになるものなのでしょうか？化学にお強い方、どうかご回答よろしくお願いします。
- ベストアンサー
- 化学
- TMAHとSiのエッチング反応比、及び反応式につ…
TMAHとSiのエッチング反応比、及び反応式について 物理･化学の初心者です。 TMAH（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）の２２ｗｔ％水溶液における、Si（ シリコン）とTMAHの エッチング反応比は１：１と聞いたのですが、本当なのでしょうか？ Si + 2OH- + H2O → SiO32- + 2H2↑ 上記のシリコンのエッチング反応式からすると、エッチング反応には２つの水酸基（OH-）が必要だと思うのですが、TMAHの化学式をみると、窒素（N）にメチル基（CH3）が４つと、OH-が一つ付いていました。 TMAH水溶液中でSiを1mol分エッチングするとしたら、TMAHは2mol必要なのでは？と思ったのですが、実際はどのようなエッチング反応比なのでしょうか？ また、TMAHとSiのエッチング反応式をご存知な方がいらっしゃいましたら、こちらだけでも教えていただけないでしょうか？
- 締切済み
- 化学
- 液晶用ノﾎﾞラックフォトレジストの剥離残について…
液晶用ノﾎﾞラックフォトレジストの剥離残について教えてください 当方、ITO膜上のMAM（Mo-Al-Moの積層薄膜）のフォトリソ～エッチング～レジスト剥離で困っています。 不具合現象ですが、MAMパターンエッジだけにフォトレジストが一部残ってしまいます。 フォトレジストが接触する薬品関係は以下のものです。 KOH現像液、純水、リン酸/硝酸/水のMAMエッチング液（反応により水素ガス発生）、グリコール系溶剤/トリエタノールアミン含有の剥離液となります。 又、エッチング前の処理としてUVオゾン処理があります。 剥離残が発生しない時もあるのですが、突如として発生する事があります。 考察では、フォトレジストの不溶化がおきていると見ていますが不溶化のメカニズムがいまいちわかりません。 又、剥離前のレジストパターンをSEM観察するとレジストにクラック現象が見られています。 どなたか、知見のある方がおりましたらお教え願います。
- 締切済み
- 化学
- 現像について。
写真を現像するときに 現像液、停止液、定着液などにつけるとき 時間が指定されているのはなぜか 化学反応の見地から述べよ、という問題があるのですが 分かりません。 教えてください。 お願いします。 現像の過程で温度に気をつけなければならない理由も 教えていただけたらありがたいです。
- ベストアンサー
- デジタルカメラ・フィルムカメラ
- 電子部品ウェーハのダイシングに関して
ある電子部品の開発屋です。 ウェーハ上に金属薄膜の電極を形成し、半導体と同じようにダイシングにて、チップ(ダイ)に切断します。電極上にパシベーション膜が無いため、ダイシング中にウェーハ材料の微細な破片(μｍオーダー)が、薄膜電極に高速衝突し、電極にキズを付けてしまいます。このキズにより特性不良が生じます。 これを回避するための保護膜を検討中ですが、適当なものは何でしょうか? ちなみにダイシングは、ハーフカットではなくフルカットです。なおダイシング後に保護膜を容易に取り除くプロセスについても、あわせてお知恵を拝借できればと思います。よろしくお願い致します。 PS／身近にあるポジ方フォトレジストを試行した経験がありますが、ダイシングテープへのダメージを伴うため、有機溶剤による保護膜剥離は出来ません。またフォトレジストを除去するための露光とアルカリ現像液塗布のプロセスですと、現像液により電極がエッチングされ、わずかながら特性に影響をきたします。 － 以 上 －
- 締切済み
- その他（FA・自動化）
- タミヤセメント（ABS用）ITEM87137の希釈
数年前に購入したタミヤセメント（ABS用）をきっちりフタをしめたのですが先ほど久しぶりに使おうとしたらカチカチになっていました。 https://www.tamiya.com/japan/products/87137/index.html 第4類 引火性液体 第一石油類 非水溶性液体 危険等級Ⅱ 成分：酢酸ビニル共重合体樹脂25%、有機溶剤75%（アセトン、メチルイソブチルケトン）酢酸n-ブチル、シクロヘキサノン と記載があります。 定価たった330円の商品ですが買い直す前に悪あがきして希釈してみようかと思うのですが、上記成分から考察して何で希釈したら宜しいでしょうか？ ちなみにシンナー原液（エアブラシ清掃用）アセトン（FRP清掃用） ミスターカラー真溶媒液 https://www.mr-hobby.com/ja/product1/category_7/163.html は所有しています、科学の知識に明るい方のご回答が頂けたら幸いです。
- ベストアンサー
- 化学
- PMMAの透明性について
PMMAのナノ粒子（直径350nm程度）をけんだく重合で合成したところ、白色になりました。 PMMAは透明度が高いはずなのですが、なぜ色がついたのでしょうか？ 散乱の影響でしょうか？ もしそうだとすると透明度の高いPMMAナノ粒子を作ることは不可能なのでしょうか ？
- 締切済み
- 化学
お礼
ご回答ありがとうございます． 特別な化学反応があるわけではなかったんですね． どうりで本を探しても載っていないわけです． 大変参考になりました．ありがとうございました．