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真空蒸着装置について教えてください

真空蒸着装置において、できるだけ高真空で蒸着する方が、なぜ望ましいんでしょうか? よろしくお願いします。

みんなの回答

  • apple-man
  • ベストアンサー率31% (923/2913)
回答No.1

1.原材料を気化させる温度を低くできる。 2.不純物の混入を低く抑えられる。 といったところでしょうか。  周囲のガス圧より、気化させる金属の蒸気圧が 高ければ気化が起こって、蒸着できるので、 周囲のガス圧が高いと、より高温にしないと 金属の気化が起こらないわけで、より低い 温度での蒸着を考えた場合、真空度は 高いほうがいい。  蒸着中に、雰囲気ガスの分子も基板上に 付着して拡散していきます。半導体の特性の ように、微量な不純物の混入が、電気的特性に 大きな影響を与える場合もあるので、 より高真空のほうがいい。  そんなところでしょうか。

haruka1009
質問者

お礼

本当にありがとうございます。 大変役に立ちました。

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