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半導体　プロセス

半導体を勉強していますがプロセスについて質問です。 Ｐ型やＮ型半導体に部分的にアンドープの領域を作ることはできるのでしょうか？ もしできるならどのようにするか教えていただけたら嬉しいです。

noname#111323
noname#111323
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  • rabbit_cat
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回答No.1

どういう構造を作りたいのかよく分かりませんが、 単純に、ドーパントをイオン注入するときにマスクして置けばいいのでは？ それとも、本当に真性半導体を得たい、ということですかね。普通、基板はｐ型が多いと思うので、完全な真性半導体は手に入りにくいですね。（ないことはないですが） 実験室で作るとして、薄い層でいいならエピで作るのが手軽だとは思います。

その他の回答 (1)

  • tadys
  • ベストアンサー率40% (856/2135)
回答No.2

intrinsicな領域を持つ半導体は「PINダイオード」として実用されています。 用途は高周波のスイッチやアッテネータなどです。 作りかたは「PINダイオード 製造法」で検索すれば良いでしょう。

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