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真性半導体
真性半導体のことなんですが、温度が一定の場合なぜ電子密度と空孔の積が定数になる?真性半導体の電子密度と空孔密度が同じと関係があるんでしょうか?
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こんばんは。 N型(電子が多い)とP型(ホールが多い)というのは、実は、 酸性(H+が多い)とアルカリ性(OH-が多い)というのと同じことなんです。 A温度が高いほど、電子やホールがたくさん飛び出てきます。 Bその一方で、電子とホールが出会うと、相殺して対消滅します。 a温度が高いほど、H+やOH-がたくさん飛び出てきます。 bその一方で、H+とOH-が出会うと、H2Oになります。 H+の個数が多いほど、OH-と出会ってH2Oになる確率が増します。 OH-の個数が多いほど、H+と出会ってH2Oになる確率が増します。 よって、H2Oが生成する反応の速度は、H+の濃度にもOH-にも比例します。 ←重要! 平衡状態では、aの頻度とbの頻度が一定です。 [H+の濃度]×[OH-の濃度] = 温度で決まる定数 という関係が成り立ちます。 常温では、 [H+の濃度]×[OH-の濃度] = 10^(-14)[mol^2/L^2] です。 高校の化学で習う「濃度積」というやつです。 たとえば、pH=5 であれば、 [H+の濃度]×[OH-の濃度] = 10^(-5)×10^(-9) pH=10 であれば、 [H+の濃度]×[OH-の濃度] = 10^(-10)×10^(-4) です。 半導体では、a、b と本質的に同じことが、A、Bとして起こっているので、 電子の密度と正孔の密度の積は、温度で決まる定数となります。 以上、ご参考になりましたら幸いです。