- ベストアンサー
モノメチルシランって
現在、プラズマＣＶＤ法により、 モノシラン１００％で水素化アモルファスシリコンを製膜しています。 これをモノメチルシラン１００％にすると、どういったものができるのでしょうか？ 水素化アモルファスシリコンができるのでしょうか？ また、モノメチルシランとモノシランの違いについてもどなたかレクチャーよろしくお願いします。
- inoueinoue
- お礼率35% (243/678)
- 化学
- 回答数1
- ありがとう数1
- みんなの回答 （1）
- 専門家の回答
質問者が選んだベストアンサー
こんな質問する人 居るのですね。 私もシラン系材料使ってるけど、 ＣＶＤは全くしたことが無いです ただ モノシランよりモノメチルシランの方が自然発火性が低いので 安全に取り扱う事が出来ると思います。 モノメチルシランでＣＶＤで膜を作るとＳｉ－Ｃの製膜が出来ますよね ？？ （Ｓｉ－Ｈもできてる） ＣＶＤの条件も異なるから 文献を見直さないと出来ないのでは？ 私もシラン系材料を精製する際に モノシランが発生するから 水中で窒素パージして 燃やしてますね。 あなたも 火を噴かないように ご注意を！！ くだらないことかいてゴメンネ。 自分で文献調べた方が 良いヒントが見つかると思います。 さすがに此処では シラン系材料の専門は居ないと思います。
関連するQ&A
- 膜厚について
基本的に膜厚が大きいということのメリットは何なんでしょうか？ 実験をする際に、性質が安定することより、より正確なデータを得ることが可能なのでしょうか？ 同じ膜厚でも製膜時間の違いで膜の質が違ってくるのでしょうか？ 突然の質問で申し訳ございません。 当方、アモルファスシリコン薄膜を作っており、 通常作成した膜厚は３００ｎｍ～２μｍぐらいです。 ちょうど１μｍの膜厚を製膜を考えています。 製膜時間をできるだけ短く抑えたいのですが、 膜の質が悪くならないか懸念しています。 また、短い製膜時間で膜厚の大きいものを作るということは、膜が剥がれたりしないのでしょうか？ どうぞよろしくお願いいたします。
- ベストアンサー
- 物理学
- ＣＰＭ（Constant photocurrent method）について
タイトルの通り、 ＣＰＭ（Constant photocurrent method）を使用しています。 サンプルは、 カバーガラス上にプラズマＣＶＤ法で製膜した水素化アモルファスシリコンです。 膜厚は１ミクロン（１μｍ）です。 結論から申しますと、光電流の定義がわかりません。 要は、ＣＰＭの測定方法がわからないということに直結しますが。 これまで、 ６００ｎｍ波長、７０Ｖを光電流としてきましたが、 これがどうやらおかしいみたいです。 測定は、６００ｎｍ～１４００ｎｍまで行い、 ランプの定格が１００Ｖなので、 こういった選定になったのか、、、 なんせ、過去の測定方法を見てもバラバラで、 ＣＰＭの測定方法など書かれたものがなく、 僕が知っている限りでは、 光電流は、波長と光源電圧で決まり、 暗電流を無視できるぐらい十分の値（暗電流の約１００倍）をとる ということですが、 では、光電流というのは、 サンプルによって、波長、光源電圧が変わり、 長波長や短波長、電圧が高い、低いなどという概念に縛られなくてよいのでしょうか？ どなたかアドバイスよろしくお願いいたします。
- ベストアンサー
- 物理学
- 液晶製造工程の裏面露光について
こんにちは。アモルファスＴＦＴ液晶のアレイ工程でゲート電極を形成した後に絶縁膜、アモルファスシリコン、チッ化膜をＣＶＤで形成した後にレジストを塗布しますが、その後に裏面露光をすると雑誌には書いてあったのですが、理由がわかりません。どなたか教えて下さい。裏面露光後、表面露光もし、その後に現像します。
- ベストアンサー
- 化学
- プラズマCVDについて
全くのド素人で申し訳ありません。 現在プラズマCVDで、基板上に製膜を考えております。 そこで、プラズマを見るために、Q-massや、ラングミュアプローブ、分光分析装置などいろいろあり、どれかを導入しようと考えているのですが、決めかねております。 それぞれの装置が何を見るための装置なのかは理解出来ているつもりなのですが、 主要な用途がいまいち理解出来ておりません。 これらの装置の利用方法が記載されているホームページなどご存じでしたら教えて頂けないでしょうか。 よろしくお願い申し上げます。
- 締切済み
- 物理学
- SiH4 → Si+2H2 の反応機構
液晶ディスプレイに使われる薄膜トランジスタについて調べています． タイトルの，水素化アモルファスシリコンから水素が抜けてアモルファスシリコンができる反応は，どのような反応機構で進むのでしょうか？ 何か参考になる文献などありましたら，教えていただけると幸いです．
- 締切済み
- 化学
- ダイヤモンド薄膜のプラズマCVD法による生成について
プラズマCVD法でエタノールでダイヤモンド薄膜を生成しようと試みているのですが、なかなか上手く行きません。また研究の都合上、水素とメタンを使うことが出来ません。よくダイヤモンド生成の論文には水素とメタンを原料ガスとして使うと書いてあるのですが、なぜ水素とメタンでなくてはならないのですか？その理由を出来るだけ詳しく教えてください。お願いします。
- 締切済み
- 化学
- シリコンウェハについての質問です。
シリコンウェハについての質問です。 シリコンウェハにはp型とn型がありますよね。 それぞれの違いについて、含まれる不純物が違うというところまではわかったのですが、 具体的にどのように性質が違うのかを教えてください。 ちなみに私は、シリコンナイトライドを製膜したシリコン基板を ドライエッチング、ウェットエッチングを用いて薄膜にして その薄膜にナノポアを開けてデバイスにするという作業を行っています。
- ベストアンサー
- 物理学
- フォトルミネッセンス測定で
ガラス基板上に製膜したシリコン薄膜のフォトルミネッセンスを 測定したんですが、膜が薄いせいか基板が光ってしまいます。 何かよい方法はないでしょうか？
- ベストアンサー
- 物理学
- プラズマCVDにおける電子について
お世話になります。 プラズマCVDのことでお聞きしたいのですが、 高周波やDC電源でプラズマを起て、基板はアースにつないでおくと、電子は、基板に向かって飛んでいくと思うのですが、この際、基板状に堆積した膜材質は飛んできた電子でダメージを受けるのでしょうか？ もしくは、電子によって基板に埋め込まれるのでしょうか？
- ベストアンサー
- 物理学
お礼
ありがとうございました。