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- fujifuji1970
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>半導体製造設備にプラズマＣＶＤという装置がありますが、この設備はイオン注入に使われる事がありますでしょうか？ あくまでもプラズマを立てて原料ガスを流す装置であって、 イオンの加速源がないので、インプラできません。
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