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リフトオフプロセス
alien55の回答
リソグラフィー（あるいはフォトリソグラフィー）とは半導体集積回路などの製造工程において、ウェハ（基板）表面に2次元パター ンを形成する方法ですが、リフトオフ・プロセスとはフォトリソグラフィー工程の一種です。 通常、フォトリソグラフィーと言うと、次の工程を指し示します。 （1）基板上にレジストを塗布する（普通、適度にベイクさせた後、基板を高速回転しながらレジスト液を滴下し、均一に基板表面に 塗布します。また塗布後、レジストと基板との密着性を高めるために加熱処理します）。 （2）マスクやレティクルを利用して露光する（パターンが印刷されているマスクを基板に近接させて、光を当てる。レジストは光が 照射された部分のみ化学的に変質します）。 （3）現像および加熱処理（現像液によって変質したレジストを溶かします。所望のパターンに沿ってレジストを溶かしたことになり ます。その後加熱処理を行います）。 （4）エッチングなどを行う（ここで例えばエッチャントなどに浸けると、レジストの無い部分の基板のみがエッチングされ、基板上 にパターンに沿った段差を形成することができます）。 （5）剥離する（最後にレジストを剥離液などで除去します）。 さて、リフトオフとは、上記の（4）の後に、金属蒸着を行う場合などに利用されます。上記（4）の後、次のようにします。 （5'）蒸着する（（4）でエッチングをしたとき、エッチャントが段差の側面をも溶かし（サイドエッチと言う）、レジストによって ヒサシができます。このヒサシが重要です。このヒサシのお陰で、レジスト上に蒸着された金属膜とエッチングされた部分に成膜 された金属膜とを断絶できます。またこのとき、金属を蒸着するとき、レジストを一種のマスクに使っていることになります）。 （6'）剥離する（最後にレジストを剥離液などで除去。そのとき、レジスト上の金属膜も一緒に取り除かれます）。 このようにすると、蒸着された金属はちょうど(4)でエッチングされた部分に入り込む形で残ります。パターンに沿った金属膜が形成 できるわけです。 「リフトオフ」という言葉は、多分、最後の(6')の過程で、レジスト上に余分に成膜された金属膜を、レジストが持ち上げて（lift） 取り除く(off)、ということから出来た言葉です。文章では分かりにくいと思うので、上記の工程を絵にしてみます。 (1) ■■■■■■■■■■レジスト □□□□□□□□□□基板 □□□□□□□□□□ (2) ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓光 ▲▲▲▲▲↓↓▲▲▲マスク ■■■■■■■■■■レジスト □□□□□□□□□□基板 □□□□□□□□□□ (3)現像 ■■■■■ ■■■レジスト □□□□□□□□□□基板 □□□□□□□□□□ (4)エッチング エ ッ チ ャ ン ト ■■■■■ ■■■レジスト □□□□＿＿＿＿□□基板 □□□□□□□□□□ (5)蒸着 ◎◎◎◎◎ ◎◎◎金属膜 ■■■■■ ■■■レジスト □□□□＿◎◎＿□□基板 □□□□□□□□□□ (6)レジスト除去（これがリフトオフ） □□□□＿◎◎＿□□ □□□□□□□□□□出来上がり こんな絵で上手く伝わるか心配ですが、もし何かわからないことがありましたら、補足をお願いします。
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